1 / 10

3D FLASH 高い空間分解能 0.8x0.7x1.6 mm voxel 内の dephasing を最小限 大きな位相分散による信号低下を避け、位相差情報を検出するため

Susceptibility-Weighted Imaging:SWI. 3D FLASH 高い空間分解能 0.8x0.7x1.6 mm voxel 内の dephasing を最小限 大きな位相分散による信号低下を避け、位相差情報を検出するため. Rauscher A. Magn Reson Med. 2005 Jul;54(1):87-95. SWI の理解に虚数が必要？ Nombre imaginaire. 虚成分 Im M sin f. 虚数　 imaginary number 2 乗してマイナスになる数 虚数単位： i 2 乗して -1 になる数

flo
Download Presentation

3D FLASH 高い空間分解能 0.8x0.7x1.6 mm voxel 内の dephasing を最小限 大きな位相分散による信号低下を避け、位相差情報を検出するため

An Image/Link below is provided (as is) to download presentation Download Policy: Content on the Website is provided to you AS IS for your information and personal use and may not be sold / licensed / shared on other websites without getting consent from its author. Content is provided to you AS IS for your information and personal use only. Download presentation by click this link. While downloading, if for some reason you are not able to download a presentation, the publisher may have deleted the file from their server. During download, if you can't get a presentation, the file might be deleted by the publisher.

E N D

Presentation Transcript

  1. Susceptibility-Weighted Imaging:SWI • 3D FLASH • 高い空間分解能 • 0.8x0.7x1.6 mm • voxel内のdephasingを最小限 • 大きな位相分散による信号低下を避け、位相差情報を検出するため • Rauscher A. Magn Reson Med. 2005 Jul;54(1):87-95.

  2. SWIの理解に虚数が必要？Nombre imaginaire 虚成分 Im M sinf • 虚数　imaginary number • 2乗してマイナスになる数 • 虚数単位：i • 2乗して-1になる数 • i =√ -1 • オイラーの等式 • eip + 1 = 0 横磁化 • Xy平面上の横磁化成分もベクトルとして考えることができる。 M f 実成分 Re M cos f • Re: 実成分 • Im: 虚成分 • M: 横磁化成分の絶対値 • f : 位相角

  3. 複素平面（ガウス平面、アルガン平面） 虚数の数直線（虚数軸） 虚成分 Im M sinf 横磁化 5+4i • Xy平面上の横磁化成分もベクトルとして考えることができる。 4i M M f f 実成分 Re M cos f - 5 5 実数の数直線（実数軸） • Re: 実成分 • Im: 虚成分 • M: 横磁化成分の絶対値 • f : 位相角 • Re: 実成分 • Im: 虚成分 • M: 複素数の絶対値 • f : 虚数の偏角 - 4i • 複素数＝複数の要素をもった数 • ベクトル平面＝複素平面

  4. 実チャネルと虚チャネル、実成分と虚成分 虚チャネル 虚成分Im M sinf 横磁化 M • 実数成分(cos)→同位相 • 虚数成分(sin)→直角位相 実チャネル f 実成分 Re M cos f • 信号強度と方向 • MR信号は位相差による実成分(real、同位相成分)と虚成分(imaginary、直交位相成分) からなる．実成分と虚成分は直交配列するquadrature型コイルを考えると理解しやすく，直交座標系として表現することができる ． • Re: 実成分 • Im: 虚成分 • f : 位相角

  5. 実成分と虚成分，強度画像と位相画像 虚成分Im M sinf 横磁化（MR信号）　 • 強度画像 magnitude image M = √Re2 + Im2 • 位相画像 phase image tan f = Im / Re f = arctan [Im / Re] (-p/2<f<p/2) M f 実成分 Re M cos f • Re: 実成分 • Im: 虚成分 • M: 強度画像 • f : 位相角

  6. 実成分と虚成分，強度画像と位相画像 実数部分k-space 虚数部分k-space 虚成分Im M sinf MR信号 • SWIは強度画像と位相画像を用いる FT M 実数画像 虚数画像 f 実成分 Re M cos f 強度画像magnitude 位相画像phase • Re: 実成分 • Im: 虚成分 • M: 強度画像 • f : 位相角

  7. 撮像データからSWIまでの後処理，再構成までのステップ撮像データからSWIまでの後処理，再構成までのステップ Postprocessing of SWI • High-pass filter • 磁化率差以外の要因による背景の位相変化を除去 • 背景に含まれる低周波数成分の位相の乱れを取り除く。 • “Phase” mask • 位相差を強調するために、信号を落としたい位相の部分が０になるようなマスク画像を作成 • 位相画像上で位相が進んでいる(あるいは遅れている部分)を０、位相差のない部分は１にしたような画像 1.High-pass filter • Rauscher A．Magn Reson Med. 2005 Jul;54(1):87-95. realigned data 2.Phase mask image Phase image 3.multiplication 4.mIP Magnitude image SWI

  8. 位相マスク画像の掛け合わせ • 位相画像 ⇒ マスク ⇒ SWI • p<f< 00 <f masked< 1r=r magnitude＊[fmasked ]n • SWIでは複数回掛け合わせ(n)により、磁化率変化による位相差を強調 • T2*WIに比較して１０倍以上の鋭敏さがある． • 　位相差　 - p/2 と　- p/4 • 　位相マスク画像を4回掛け合わせるとすると • →　r=r magnitude＊[fmasked ]4 • 1 = - p/2 f1masked = 0.50 r=r1 magnitude＊0.0625 • 2 = - p/4 f2masked = 0.25 r=r2 magnitude＊0.0039 2:1 16:1

  9. T2WI SWI SWIは磁化率に鋭敏 静脈 • 撮像voxelの1/4程度の大きさまで磁化率効果が描出される • 0.50mmのvoxelでは0.25mm径の静脈が描出できる • 大きさを過大評価 • Partial volume effect 静脈

  10. 撮像データからSWIまでの後処理，再構成までのステップ撮像データからSWIまでの後処理，再構成までのステップ Postprocessing of SWI • “Phase” mask multiplication • 位相マスク画像を強度画像(magnitude image)に複数回掛け合わせる(multiplication)ことで、画像のCNRを向上させる • Minimum intensity projection; mIP • 静脈を評価する場合には、ある程度のスライス厚情報をもって画像化すると有用なため，最小値投影法mIPによる再構成画像を作成 1.High-pass filter • Rauscher A．　Magn Reson Med. 2005 Jul;54(1):87-95. realigned data 2.Phase mask image Phase image 3.multiplication 4.mIP Magnitude image SWI

More Related