240 likes | 693 Views
ワイドギャップ半導体材料評価 -名工大 市村・加藤研の取り組み-. 名古屋工業大学 電気電子工学科 加藤 正史. http://araiweb.elcom.nitech.ac.jp/. 車載用パワーデバイス材料. 高温動作 熱伝導率・バンドギャップ 省エネルギー 絶縁破壊電界・移動度 小サイズ 省エネルギー・高温動作 低コスト 結晶成長・プロセスコスト. SiC ・ GaN が優れている. Si が素晴らしい. 材料の比較. 値は H. Okumura, Jpn. J. Appl. Phys. 45 (2006) 7565. より. ユニポーラ理論性能.
E N D
ワイドギャップ半導体材料評価-名工大 市村・加藤研の取り組み-ワイドギャップ半導体材料評価-名工大 市村・加藤研の取り組み- 名古屋工業大学 電気電子工学科 加藤 正史 http://araiweb.elcom.nitech.ac.jp/
車載用パワーデバイス材料 • 高温動作 • 熱伝導率・バンドギャップ • 省エネルギー • 絶縁破壊電界・移動度 • 小サイズ • 省エネルギー・高温動作 • 低コスト • 結晶成長・プロセスコスト SiC・GaNが優れている Siが素晴らしい
材料の比較 値はH. Okumura, Jpn. J. Appl. Phys. 45 (2006) 7565.より
ユニポーラ理論性能 現状はもっと下 GaNが最高性能だがゲート技術、バイポーラ動作に課題
パワーデバイス・車載パワエレトレンド Google Scholarによる論文数 Siデバイス・パワエレが圧倒的だが、SiC・GaNも躍進
ポリタイプの推移 過去は6Hがトップ、次第に4Hが主流に 加藤の発表論文 3C→6H→4H→?という流れ 現在産業界の主流は圧倒的に4H
3C-SiCの評価 1998年当時 3C, 6H, 4H全てのポリタイプに可能性 豊田中研と3Cの研究 3CはSi基板の上に成長可能、4インチが可能 6H-,4H-は1.5インチ 3C-SiCのバンドギャップ中の準位を評価(DLTS)
アンジュラントSi基板の利用 フリースタンディング3C-SiC結晶 3C-SiCにはまだまだ 課題あり・・・ キャリアライフタイムマップ 歪みと電気特性に相関 偏光顕微鏡像 歪みによるコントラストが存在
キャリアライフタイム測定 マイクロ波光導電減衰法(μ-PCD法) 10GHz microwave 266 nm or 355 nm laser photon/pulse=2-3×1015 cm-2 microwave reflection wave guide sample 励起キャリア分布 ・励起光源により異なる ・時間と共に拡散
Ec Ev キャリアの再結合過程(n型半導体) 完全な結晶 長いキャリアライフタイム 再結合中心ありの結晶 励起光 短いキャリアライフタイム 光励起 トラップありの結晶 遅い成分のある減衰
GaNの評価 豊田中研とGaNの研究 ドライエッチングとp型に課題が存在:評価 キャリアライフタイム測定 フォトキャパシタンス測定 ドライエッチングによる キャリアトラップ発生を確認
6H-、4H-SiCウェハーの評価 6H-,4H-SiCウェハーに対するキャリアライフタイム測定 キャリアライフタイム X線トポグラフ 複屈折像 キャリアライフタイム測定によりウェハー内の欠陥評価が可能
キャリアライフタイム温度依存 p型4H-SiCウェハーのキャリアライフタイム温度依存性を確認 遅い成分は深い準位によるキャリアの捕獲による
4H-SiC、6H-SiCエピの深い準位評価 4H-SiCエピ中の深い準位の光励起断面積 6H-SiCエピのO-CTS信号 結晶欠陥の光物性が明らかに
4H-SiCエピのキャリアライフタイム評価 as-grown-surface samples 35, 65 and 120 mm thick both-side-polished samples 33, 63 and 83 mm thick 電子線照射で炭素空孔を作ると p型4H-SiCのキャリアライフタイム減少 自立n型4H-SiCのキャリアライフタイム測定により表面再結合速度を評価 バイポーラデバイスの設計に有用な情報
電気化学による6H-SiCウェハーの評価 電気化学で6H-SiCをエッチング 6H-SiCウェハーにおける欠陥観察 ウェハー内の螺旋転位を可視化
4H-SiCSBDの評価 電気化学(めっき)によるショットキーバリアダイオードの評価 non ideal 順方向特性の悪いSBD めっきする場合のバンド図 ideal 4H-SiCエピへのめっき前後
不良SBDへの堆積 不良SBDの表面に堆積物 Dot Seems nothing Commet 堆積を導く欠陥は表面欠陥、突起物と積層欠陥
電気化学による4H-SiC SBD性能改善 SiO2 陽極電圧 リーク(正孔)電流 により酸化 OH- 半導体 電解液 陽極酸化後にリーク電流が減少
大学での半導体研究 大学での研究 企業・国研による開発 同じ直線に乗っては意味がない ・いずれは誰かが開発 ・下請け機関になってしまう ・そもそもプロセス装置がない 相互作用 使ってもらわないと役に立たない ・自己満足 ・業績リスト作り 新技術開発 物性評価 デバイス開発・評価 大学として意義のある研究を目指して
車載用デバイスへの応用に向けて 重視される点 ・高温特性 ・信頼性 ・モジュール性能 ・コスト コスト以外はSiC,GaNが優位 有力な素子 モーターインバータ 整流素子 4H-SiCJBS スイッチング素子 4H-SiCMOSFET、BJT 電源用 Si基板上GaNSBD・HEMTオンチップ構造 #スマートグリッドを視野に入れた場合かなり高い要求