1 / 14

Politechnika Koszalinska

sanne
Download Presentation

Politechnika Koszalinska

An Image/Link below is provided (as is) to download presentation Download Policy: Content on the Website is provided to you AS IS for your information and personal use and may not be sold / licensed / shared on other websites without getting consent from its author. Content is provided to you AS IS for your information and personal use only. Download presentation by click this link. While downloading, if for some reason you are not able to download a presentation, the publisher may have deleted the file from their server. During download, if you can't get a presentation, the file might be deleted by the publisher.

E N D

Presentation Transcript

    3. Technologia - szybkosc nanoszenia

    4. Badania EDX, WDX Rentgenowska analiza fazowa Twardosc Adhezja Tarcie Zuzycie

    5. Badania - rtg

    6. Badania - twardosc

    8. Badania - adhezja

    11. Badanie - tarcie

    12. Badanie - zuzycie

    13. Badanie - zuzycie

    14. WNIOSKI Powloki monowarstwowe i wielowarstwowe na bazie chromu i azotu otrzymano metoda katodowego odparowania lukowego. Okreslono technologiczne warunki nanoszenia stechiometrycznych powlok Cr2N i CrN. Obie fazy charakteryzuja sie wysoka twardoscia, przy czym CrN ma lepsza odpornosc na zuzycie w stosunku do Cr2N. Na uwage zasluguje wysoka, przekraczajaca 70 N sila krytyczna, charakterystyczna dla wszystkich badanych powlok. Powloki wielowarstwowe Cr2N /CrN charakteryzuja sie niskim wskaznikiem zuzycia, 10 razy nizszym niz Cr2N i 100 razy nizszym niz Cr/CrN. Wynika to z r霩nicy mechanizm闚 zuzycia powlok mono i wielowarstwowych.

More Related