1 / 10

Szilícium plazmamarása

Szilícium plazmamarása. Készítette: László Sándor Bolyai Farkas Elméleti Líceum Marosvásárhely Tanára: Szász Ágota Bolyai Farkas Elméleti Líceum Marosvásárhely Témavezető: Straszner András BME TTK . Plazmamarás. Cél: 3D szerkezetek létrehozása (MEMS szerkezetek)

anne
Download Presentation

Szilícium plazmamarása

An Image/Link below is provided (as is) to download presentation Download Policy: Content on the Website is provided to you AS IS for your information and personal use and may not be sold / licensed / shared on other websites without getting consent from its author. Content is provided to you AS IS for your information and personal use only. Download presentation by click this link. While downloading, if for some reason you are not able to download a presentation, the publisher may have deleted the file from their server. During download, if you can't get a presentation, the file might be deleted by the publisher.

E N D

Presentation Transcript

  1. Szilícium plazmamarása Készítette: László Sándor Bolyai Farkas Elméleti Líceum Marosvásárhely Tanára: Szász Ágota Bolyai Farkas Elméleti Líceum Marosvásárhely Témavezető: Straszner András BME TTK

  2. Plazmamarás • Cél: 3D szerkezetek létrehozása (MEMS szerkezetek) • Száraz marás: a maró közeg plazma (ionizált gáz) • Elektromos térrel irányítható – függőleges falú árkok marása

  3. Mély reaktív ionmarás • Mély: a mart alakzatok oldalaránya >10 • Reaktív: egyszerre ionporlasztás és kémiai marás • A kémiai marás izotróp – a maszk alá mar • Meg kell védeni az oldalfalat • Több lépéses marás (Bosch folyamat) • Védőréteg létrehozása (C4F8 gáz) • A védőréteg eltávolítása (SF6 gáz, F+ ionbombázás) • A Si kémiai marása (Si+4F→SiF4) • Eredmény: függőleges marási profil, hullámos oldalfal

  4. Berendezés • Gázbevezetés (1 mTorr-1 Torr) • Plazma létrehozása RF mágneses térrel (tekercs) • Az ionok gyorsítása a szelet felülete felé RF elektromos térrel • Előny: a plazma sűrűségét és a bombázó ionok energiáját külön szabályozhatjuk • A marási termékek elszívása

  5. Másodlagos jelenségek • Az ionok nem csak merőlegesen érkeznek a szelet felületére • Ok: a részecskék ütköznek egymással a plazmában • Eredmény: befelé dőlő oldalfalak, az árok közepe gyorsabban maródik, szélesebb árkok gyorsabban maródnak • Az oldalfal vonzza az árokba lépő ionokat • Ok: a szelet negatív potenciálja • Eredmény: negatív dőlésszögű fal • Keskeny árkokban kevésbé jelentős

  6. Másodlagos jelenségek • Szilícium marása szigetelő réteg felett • A szigetelő pozitívan töltődik • Az elektromos tér torzul • Eltéríti a később érkező ionokat • Keskeny árkoknál az oldalfal alja bemaródik • Széles árkoknál láb jelenhet meg

  7. Kísérleti munka • A vizsgált eszköz: termoelem chip • Szerkezet: • Si hordozó (300 µm) • SiNx-SiO2 membrán (1 µm) • Vékony vezető rétegben kialakított termooszlop • A teermooszlop melegpontja alatt a Si plazmamarással eltávolítva

  8. Kísérleti munka • Ha a szerkezetet a fémréteg nélkül készítjük el, megfigyelhetjük a bemutatott marási hibákat

  9. Kísérleti munka • Megfigyelés: ha a membrán alatt vezető réteg található, az oldalfal jelentős mértékben torzul • Ok: a feltöltődő szigetelő réteg alatti fém tovább torzítja az elektromos teret, a F+ ionok sokkal nagyobb mértékben eltérülnek • A jelenség pontos leírása még kutatás tárgya

  10. Köszönöm figyelmüket!

More Related