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Strumentazione e caratterizzazione dei materiali e dei dispositivi

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Strumentazione e caratterizzazione dei materiali e dei dispositivi

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  1. Strumentazione e caratterizzazione dei materiali e dei dispositivi Mauro Mosca (www.dieet.unipa.it/tfl/people) A.A. 2013-14 Università di Palermo – Facoltà di Ingegneria (DEIM) Università di Palermo – Facoltà di Ingegneria (DEIM)

  2. Amplificatore Lock-in • Misura resistenza di contatto • Diffrattometro a raggi X

  3. Amplificatore Lock-in

  4. Amplificatore Lock-in

  5. Amplificatore Lock-in

  6. Example of noise spectrum f Amplificatore Lock-in

  7. Amplificatore Lock-in

  8. Amplificatore Lock-in

  9. Chopper

  10. Amplificatore Lock-in e chopper

  11. Resistenza di contatto

  12. Resistenza di contatto. Geometria laterale

  13. Resistenza di contatto. Definizione

  14. Transmission Line Method (TLM)

  15. Transmission Line Method (TLM)

  16. Transmission Line Method (TLM)

  17. Transmission Line Method (TLM)

  18. Diffrazione a raggi X (XRD) (bremsstrahlung) interazione tra fascio di elettroni e target metallico

  19. Diffrazione a raggi X (XRD)

  20. Diffrazione a raggi X (XRD)

  21. Diffrazione a raggi X (XRD):Legge di Bragg Legge di Bragg

  22. Diffrazione a raggi X (XRD): metodi • Metodo di Laue (q costante, l variabile) • - Metodo delle polveri (l costante, q variabile) anche per film policristallini

  23. Diffrazione a raggi X (XRD):diffrattometro (solidale con la fenditura)

  24. Diffrazione a raggi X (XRD):diffrattometro alla Bragg-Brentano

  25. Diffrazione a raggi X (XRD): q-2q scan

  26. Diffrazione a raggi X (XRD):texture e mosaicità (w-scan)

  27. Diffrazione a raggi X (XRD): w-scan q-2q-scan w-scan (rocking curve)

  28. Diffrazione a raggi X (XRD):goniometro a 4 cerchi (f-scan)

  29. Diffrazione a raggi X (XRD): f-scanFigura dei poli

  30. Diffrazione a raggi X (XRD):legge di Scherrer: Deformazioni reticolari legge di Scherrer allargamento dovuto alla dimensione dei grani cristalliti