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3 次元構造インダクタと底面配置回路を用いた 484- m m 2 21-GHz LC-VCO. ○ 村上 塁 , 岡田 健一 , 松澤 昭. 東京工業大学大学院理工学研究科 電子物理工学専攻. Contents. ・研究背景 ・インダクタの小型化 ・底面配置構造 ・測定結果 ・まとめ. 研究背景. 15. 15. Clock. 10. 10. Clock [GHz]. 5. 6 s Jitter/Clock [%]. Ring-VCO. 0. 5. 31.6x. LC-VCO. 0. [1].
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3 次元構造インダクタと底面配置回路を用いた484-mm2 21-GHz LC-VCO ○村上 塁, 岡田 健一, 松澤 昭 東京工業大学大学院理工学研究科 電子物理工学専攻
Contents ・研究背景 ・インダクタの小型化 ・底面配置構造 ・測定結果 ・まとめ R.Murakami, Tokyo Tech
研究背景 15 15 Clock 10 10 Clock [GHz] 5 6s Jitter/Clock [%] Ring-VCO 0 5 31.6x LC-VCO 0 [1] 微細化に伴う電源電圧の低下→Ringの雑音劣化 RingをLCに置き換える必要がある [1] 佐藤高洋, 電子情報通信学会ソサエティ大会 2009 R.Murakami, Tokyo Tech
inductor core リング発振器とLC発振器 Ringと比較してLCは面積が大きい 受動素子が支配的 LC-VCOの小型化を検討する • まず受動素子、特にインダクタの小型化を検討 R.Murakami, Tokyo Tech
発振周波数 発振周波数 周波数が高いほうが必要なLが少なく 小さいインダクタで構成できる 20GHz以上の高周波になると 表皮効果の影響でQ値劣化 • 雑音劣化、消費電力増加 面積と雑音特性を考慮し20GHzのLC-VCOを検討 R.Murakami, Tokyo Tech
LS RS 100mm CL インダクタ構造 面積 1/60 15mm Stacked-spiral Mono-layer R.Murakami, Tokyo Tech
回路のインダクタ底面配置 超小型インダクタを用いた場合、インダクタの面積と能動素子の占める面積が同程度になる インダクタ底面に回路を配置することで面積を半減 インダクタと回路配線間で磁界結合が起きやすい R.Murakami, Tokyo Tech
磁界結合 磁界結合によるインダクタンスとQ値の劣化が問題 平行配線 電流ループ 磁界結合を極力抑える R.Murakami, Tokyo Tech
結合低減のためのレイアウト インダクタと回路に流れる電流方向を 直交させることで磁界結合を低減 R.Murakami, Tokyo Tech
配線の影響 HFSSを用いて配線モデルを作成しインダクタのLSおよび Qに与える影響をシミュレーション LS,Q 5%劣化 FoM換算で0.4dB R.Murakami, Tokyo Tech
Chip Micrograph Output Buffer 22mm VCO core 22mm R.Murakami, Tokyo Tech
Measurement Result [2] [2]Shih-An Yu, et al., IEEE TCAS-II 2009 R.Murakami, Tokyo Tech
Performance Summary [3]A.Tanabe, et al., RFIC 2009 [4]I.Hwang, et al., JSSC 2004 [5]K.Okada, et al., VLSIC 2009 R.Murakami, Tokyo Tech
Summary • A very compact LC-VCO with a stacked-spiral inductor and the core-circuit being placed under the inductor is proposed. • This VCO achieves a chip area of 484mm2 and FoMA of 206dBc/Hz. R.Murakami, Tokyo Tech