360 likes | 890 Views
ECR-CVD& HIT 太陽能電池. 指導老師 : 蕭瑞陽、林儒禮 老師 組別 : 第 20 組 學生 : 曹祖嘉 ( 49614024 ) 、張善淵 (49614049 ). 化學氣相沉積 ( CVD ). CVD (Chemical Vapor Deposition) ,乃利用化學反應的方式在反應腔體內將反應物 ( 通常為氣體 ) 生成固態的生成物,並沉積在晶片表面的一種薄膜沉積技術。. 能量型式分類. 能量來源: 利用電漿( plasma) ,為電漿輔助 CVD ( Plamsa Enhanced CVD )。
E N D
ECR-CVD&HIT太陽能電池 指導老師:蕭瑞陽、林儒禮 老師 組別:第20組 學生:曹祖嘉(49614024)、張善淵(49614049)
化學氣相沉積(CVD) CVD(Chemical Vapor Deposition),乃利用化學反應的方式在反應腔體內將反應物(通常為氣體)生成固態的生成物,並沉積在晶片表面的一種薄膜沉積技術。
能量型式分類 能量來源: • 利用電漿(plasma),為電漿輔助CVD(Plamsa Enhanced CVD)。 • 以加熱的方式提供活化能的為熱CVD(Thermal CVD)。 • 利用光來局部加溫裂解,為光CVD (photo- CVD)。
前言 電子回旋共振電漿技術是本世紀六十年代中期開始,首先以核融合方面的應用為目的而開發。 在1982年由日本NTT公司提出應用於半導體工業後,受到廣泛的注意,而後再薄膜的沉積、蝕刻、摻雜等多種半導體製程中得到應用。
什麼是ECR? ECR(電子回旋共振) 當磁場強度一定時,帶電粒子回旋運動的頻率與速度無關,而是一定的。
據此,若施加與此頻率相同的變化電場,則帶電粒子被接力加速,稱此為電子回旋共振(electron cyclotron resonance,ECR)
ECR-CVD的必要條件 • 電子的回旋共振頻率fce【HZ】與外加磁感應強度B【T】的關係為 fce = 2.8X1010 B • 例如,為產生2.45GHZ的微波,形成ECR所對應的磁場為87.5mT。
ECR放電之優點 微波ECR 放電將是一種新型的低溫電漿(約300K),具有高真空﹙10-2〜10-3 Pa﹚、離子能量低(10〜50 eV)、氣體離化率高(約10-2)、電漿密度高﹙1011〜1013 cm-3﹚等優點。
何謂“電漿” 電漿係指帶正電的粒子與帶負電的粒子具有幾乎相同的密度,整體呈電中性狀態的粒子集合體。
離子化程度 • 部分離子化電漿 • 弱離子化電漿 • 完全離子化電漿
何謂”真空” 泛指低於一個大氣壓的氣體狀態。與大氣狀態相比,分子密度較為稀薄,從氣體分子與氣體分子,氣體分子與器壁之間的碰撞機率要低些。
前言 • 過度使用石化燃料所導致的汙染、氣候異常與暖化等問題日趨嚴重。 • 太陽能因其取得方便、無汙染、無匱乏之虞等優點而被寄予厚望。 • 我國為半導體工業生產大國,由於太陽能電池生產與半導體產業之間有技術上的密切關聯,就推動太陽光電產業可說是已占領了極具優勢的技術制高點。
太陽能電池 • 太陽能電池依目前量產製程可分為結晶矽及薄膜太陽能電池兩大類 • 近年矽原料供應不穩定、矽原料價格暴漲薄膜型太陽能電池厚度可降低90%以上,可降低生產成本,但製作薄膜太陽能電池需要大量昂貴的真空設備,且仍有轉換效率不佳、量產良率不穩及製程標準化尚未建立等問題,使得薄膜型太陽能電池發展受限。
H.I.T太陽能電池 • 基於上述緣由,1992年日本三洋(SANYO) 使用Floating Zone n-型矽晶圓結合薄膜矽技術,成功開發異質接面薄本質層太陽能電池結構(Hetero-junction with Intrinsic Thin layer ,HIT),目前轉換效率已達到22%以上
參考資料 [1]田民波譯著,“薄膜技術與薄膜材料”, 五南出版 [2]張振福,“微波化學氣相沉積及磁控濺鍍成長類鑽石之研究”,國立中山大學電機工程學系博士論文,中華民國九十一年六月 [3]賴致全編著,太陽能光電技術之上課講義 [4]林克默編著,太陽能光電技術之上課講義 [5]國立中央大學機械工程學系利定東老師實驗室,原子能合作研究計畫,“VHF 與ECR/ICP 混成電漿成膜機制模擬分析與探討”