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ME587R 微影技術 概論

ME587R 微影技術 概論. 志聖工業 高啟清博士 Charles Kao, Ph.D Tel: 02-2601-0700 Mobile: 0939-268-725 cckao@csun.com.tw. 2007/2/27. 學歷： 2008 清華大學 EMBA 1995 美國賓州州立大學機械系 博士碩士 1985 台灣大學機械系 學士 1981 師大附中 422 班 現任： 志聖工業研發中心協理 台灣電路板協會技術發展委員會委員 專長： 影像移轉製程及曝光設備 , 電漿蝕刻設備 研發管理 , 行銷企劃 自動控制 , 影像處理 , 系統分析.

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  1. ME587R微影技術概論 志聖工業 高啟清博士 Charles Kao, Ph.D Tel: 02-2601-0700 Mobile: 0939-268-725 cckao@csun.com.tw 2007/2/27

  2. 學歷： 2008 清華大學EMBA 1995美國賓州州立大學機械系 博士碩士 1985台灣大學機械系 學士 1981師大附中 422班 現任： 志聖工業研發中心協理 台灣電路板協會技術發展委員會委員 專長： 影像移轉製程及曝光設備,電漿蝕刻設備 研發管理,行銷企劃 自動控制,影像處理,系統分析 高啟清 Charles Kao Ph.D 2/12

  3. 課程目標 • 學習在PCB, LCD, IC 製程中微影技術(曝光, 影像轉移)的基本概念 • 研討微影(曝光)技術之相關材料,設備, 流程,控制方法及發展趨勢 • 準備更進階的學習 3/12

  4. 微影技術概論 – 課程進度 2007 • Electronic industry development 2次 • 2/27, 3/6 • Photolithography overview 2次 • 3/13, 3/20 • Statistics for equipment development 1次 • 3/27, (4/3 清明停課) • MLB & HDI PCB image transfer technology 3次 • 4/10,(4/17, 4/24期中考), 5/1, 5/8 • LCD image transfer technology and trend 1次 • 5/15 • IC lithography process & equipment 3次 • 5/22, 5/29, 6/5 • IC,LCD,PCB technology roadmap & market trend 2次 • 6/12, (6/19端午), 6/26, (7/3 期末考結束) 4/12

  5. 分組：研究所二人一組, 大學部四人一組 上課心得報告七篇 30% 每組一份 1~2頁 期中報告 30% 每組一份，針對題目提出分析報告 期末報告 30% 每人一份，自選微影相關主題 出席 10% 評量標準 5/12

  6. 光罩 找出光罩廠商三家, 列出其可製作光罩種類, 並提出規格比較表(最少六種) 光阻 找出在台灣的乾膜製造廠三家, 各找出其二種乾膜做說明, 並提出這六種乾膜規格比較表 曝光機 找出歐美日系曝光機廠商各一家,各找出其二種主要機種做說明, 並提出這六種機型規格比較表 PCB 製造廠商 找出台灣前三十大PCB製造廠六家, 找出其產品發展Roadmap, 並提出這六家技術發展比較表 期中報告題目(2004) 6/12

  7. 期中報告題目(2006) 各位研發部的優秀工程師 • 本公司將要導入BGA板內層2/2線路製程 • 請評估線路製程上應要求的各項規格，並計算達成 2/2 規格可行性 7/12

  8. 交卷方式 以Power point 檔交卷 e-mail到 cckao@csun.com.tw 註明王大明期中報告 列出參考書目,文章,網站,… 評分標準: 由80分開始計算 交期: 晚一天扣5分 內容完整性 需說明項目少一項扣5分 說明完整的加分 1~5分 期中報告交卷方式,評分標準 8/12

  9. 主題：Lithography發展 (光罩,光阻,設備) 193 nm ArF immersion lithography 157 nm F2 lithography E-Beam Lithography (EPL, SCALPEL,..) EUV lithography 其他怪招 網站 www.semiconductorfabtech.com www.future-fab.com developer.intel.com/technology/itj/index.htm 期末報告題目(舉例) 9/12

  10. Coombs, Printed Circuits Handbook, 5th Ed., McGraw-Hill, 2001, ISBN: 0-07-135016-0. Dietz, Dry Film Photoresist Processing Technology, Electrochemical Pub., 2001, ISBN: 0-901150-39-8. 林定皓,多層與高密度電路板全覽,亞洲智識,2002. 林定皓,電子構裝載板技術, 台灣電路板協會, 2003. 林定皓,軟性電路板技術, 台灣電路板協會, 2003. 林定皓,電路板機械加工技術, 台灣電路板協會, 2004. 林定皓,高密度印刷電路板技術, 台灣電路板協會, 2004. 林定皓,電路板影像轉移技術, 台灣電路板協會, 2004. 林定皓, 參考書目- PCB 10/12

  11. 顧鴻壽等, 光電平面面板顯示器基本概論, 高利圖書, 2004, ISBN: 986-412-001-8. 苗村省平, 液晶Display技術現況, 工業調查會, 2004, ISBN: 4-7693-1231-8. (日文) 參考書目- FPD 11/12

  12. Sheats, Smith, Microlithography-Science and Technology, Marcel Dekker, 1998, ISBN: 0-8247-9953-4. 蕭宏原著, 半導體製程技術導論, 台灣培生, 2003, ISBN:957-2054-84-8. 張勁燕, 半導體製程設備, 五南, 2002, ISBN:957-11-2566-0. 龍文安, 半導體微影技術, 五南, 2004, ISBN:957-11-3726-X. 岡崎信次等, 半導體微影技術現況, 工業調查會, 2003, ISBN: 4-7693-1224-5. (日文) Silverman, Intel Lithography Roadmap, Intel Technology Journal, Vol. 6 Issue 2, 2002 May, ISSN:1535766X. 參考書目- IC 12/12

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