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Ch5 CMR 和电子关联 ( 2 - 1 ). 2 学时. 引言 问题的意义 第一部分 较早的工作 第二部分 近年的进展(讲 4 个问题) 第一,关联导致电荷、自旋和轨道 有序 第二,新的凝聚 状态 :相共存、相分离 第三, 2 维 “关联”电子( MIS ) 第四, p - n 结 (本所较多工作). 第二部分 近年进展 第一个问题: 关联和有序 (电荷、自旋、轨道)( 1 ). 前面, 已经讨论过了电荷有序-- Wigner 电子晶体 为甚麽同时有序? 右图示意: 波函数重叠方式 →交换作用
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引言 问题的意义 第一部分 较早的工作 第二部分 近年的进展(讲4个问题) 第一,关联导致电荷、自旋和轨道有序 第二,新的凝聚状态:相共存、相分离 第三,2维“关联”电子(MIS) 第四,p-n结(本所较多工作)
第二部分 近年进展第一个问题:关联和有序(电荷、自旋、轨道)(1) 前面, 已经讨论过了电荷有序--Wigner电子晶体 为甚麽同时有序? 右图示意: 波函数重叠方式 →交换作用 → 自旋“序”就不同
*电荷、自旋、轨道有序(2) 的反铁磁? Mn3+离子自旋排列为反铁磁(AFM)。 原因:同一格座上 eg与t2g的洪德铁磁(FM)耦合。 相邻格座超交换AFM作用 实际的轨道波函数的情况稍微复杂, Jahn-Teller 效应(电声子作用) 结果:自旋序和轨道序关联(看下图)
*电荷、自旋、轨道有序(3) 原子3d-波函数之间的 距离、相对取向 决定 交换作用的大小、符号。 从而决定 自旋取向。 自旋用箭头表示 轨道为eg电子波函数 参看前面的简易图 (其中含有氧原子)
*电荷、自旋、轨道有序(4)掺杂情况(各种x=?)*电荷、自旋、轨道有序(4)掺杂情况(各种x=?) 右图中, 圆圈 Mn4+ 波瓣 Mn3+
电荷、自旋、轨道有序(5) (计算另讲) Mn3+和Mn4+ 1,电荷棋盘 2,自旋zigzag 3,轨道转向,
电荷、自旋、轨道有序(6) 小结:形成电荷、自旋和轨道有序的原因? 1,电荷有序: 势能大于动能 U 》t , 例如,一个格点只能有一个 eg 电子。 2,轨道有序: 畸变能大于动能 g 》t。 例如,eg、 t2g 电子的轨道要对于 J-T 晶格畸变方向取向。 3,自旋有序 (接下一页)
电荷、自旋、轨道有序(7) 3,自旋有序: 离子内,Hund 耦合大于动能JH 》t , 例如,离子内部eg 自旋要平行於t2g自旋。 相邻离子间,超交换作用。 本质上都是库仑作用 Pauli 原理保证轨道有序与自旋有序的协调 总之,库仑作用的强关联效应。
第二个问题:相分离 本讲开始部分提出的问题是: (一块)材料是金属还是绝缘体?(能带论) 本讲结束部分指出,还可以提出下列问题: (一块)材料可以是金属和绝缘体多相共存?(强关联) 为什么? 1,这里是多种相互作用竞争的“临界点”。 2,“显微镜”的分辨率大大提高。看到了真实。 3,真正的量子图像是超越“平均场”近似的。 即,电子的关联效应。
相分离现象(1) 各种有序相的互动? La0.7Ca0.3MnO3/STO薄膜 在稍低于Tc时的扫描隧道谱: 共存的绝缘相与金属相团簇随磁场增加而此消彼长 Science ,285(1999)1540
相分离现象(2) 各种有序相的 分离?共存? 高分辨的原子像 I-V 特性图 电子绝缘相(左) 半导体相(右)
第三个问题:二维电子系统 电场效应和低维CMR性质 以前,改变掺杂(浓度)和薄膜厚度(维度),导致相变 如果,引进电场到多层膜结构, 也可以导致维度、浓度改变,从而导致相变。 优点: 电场导致的相变,并不增加晶体的缺陷。
一个例子低维高温超导体临界点 8纳米厚度的YBaCuO在MIS结构中: 门电压的改变 →载流子浓度改变, →从而临界温度改变。
回忆:半导体二维电子系统MIS―――电场改变载流子浓度和维度回忆:半导体二维电子系统MIS―――电场改变载流子浓度和维度
回忆:半导体界面,电场(门电压)改变载流子浓度、维度和类型回忆:半导体界面,电场(门电压)改变载流子浓度、维度和类型
15,氧化物的场效应晶体管(FET)ABO3的MIS电场(门电压)改变载流子浓度、维度和类型rf . Nature 424,1015-1018(2003) C.H.Ahn et al
Mn基MIS La1-xBaxMnO3 (as LBMO) PbZr0.2Ti0.8O3 (as PZT) SrTiO3(001) (as STO) 脉冲激光镀膜 (PLD)
电阻-温度关系,强关联特征 • 电场控制相变的证据 • LBMO为空穴型半导体 • 门电压为正,产生耗尽层 (depletion layer)浓度低。 • 门电压为负,产生堆积层 (accumulation layer)浓度高 • 不对称
困难点―――ABO3 MIS具较高浓度。而,半导体MIS有较低浓度。
和半导体相比:有较高的浓度,就有较强的屏蔽和半导体相比:有较高的浓度,就有较强的屏蔽 Thomas-Fermi屏蔽,可以明显减小库仑作用的范围 其屏蔽长度 反比于载流子浓度(Fermi level)。 数值例, 重掺杂半导体 金属 MOS的S和D之间的距离
有较高的浓度,就有太窄的耗尽层 • MIS的耗尽层长度(平方)与载流子浓度成反比 • 难点之一:Mn基MIS中,浓度达到 1019-1021/ cm3。 导致Zd≈nm。
两个解决方案 • (i)极薄的drain-source channel,可以减少载流子的绝对量到≈1014/ cm2 • (ii)用具有大的介电参数和击穿电压材料作MIS的绝缘层。提高Ksc!!! 选用强介电材料PZT
第四个问题:Mn基p-n结(本所较多工作) “电场控制结电阻的金属-绝缘转变”
一个例子强关联特征 存在整流效应 但是 温度上升, 电导反而降低 和半导体相反
结电阻-温度关系 (具有强关联特征) 电压增大导致 载流子浓度上升, 电阻下降(强关联) 浓度高,则Tp就 (看APL)强关联)
磁电阻-温度关系 电压增高导致 MR减小 (强关联特征)
结语:我们讨论了下列问题 1,自旋电子学的一条途径! 2,高温超导性机制尚未解决 3,什么是“电子关联效应”? 4,ABO3的普遍意义 5,(未掺杂的)LaMnO3是反铁磁绝缘体? 6,(掺杂的)LSMO是导体? 7, 双交换模型 8,J-T效应 9,电荷、自旋、轨道有序 10,相的分离 11,低维“关联电子”系统 12,p-n结