1 / 14

Выпускная квалификационная работа студента Орлова П.В., 881 группа.

Исследование электродинамических отклоняющих структур для минимизации искажений, вносимых в шестимерное фазовое распределение частиц при повороте сгустков электронов. Выпускная квалификационная работа студента Орлова П.В., 881 группа. МФТИ(ГУ), Факультет Проблем Физики и Энергетики.

roxy
Download Presentation

Выпускная квалификационная работа студента Орлова П.В., 881 группа.

An Image/Link below is provided (as is) to download presentation Download Policy: Content on the Website is provided to you AS IS for your information and personal use and may not be sold / licensed / shared on other websites without getting consent from its author. Content is provided to you AS IS for your information and personal use only. Download presentation by click this link. While downloading, if for some reason you are not able to download a presentation, the publisher may have deleted the file from their server. During download, if you can't get a presentation, the file might be deleted by the publisher.

E N D

Presentation Transcript


  1. Исследование электродинамических отклоняющих структур для минимизации искажений, вносимых в шестимерное фазовое распределение частиц при повороте сгустков электронов. Выпускная квалификационная работа студента Орлова П.В., 881 группа. МФТИ(ГУ), Факультет Проблем Физики и Энергетики. Кафедра: Фундаментальные Взаимодействия и космология. Научный руководитель: д.ф.-м.н. Парамонов В.В. Москва 2012

  2. Содержание: • Введение • Постановка задачи • Детализация модели и методы решения • Полученные результаты • Сравнение с зарубежными аналогами • Заключение

  3. Введение • Периодические структуры с поперечной компонентой электромагнитного поля • Отклонение и разделение частиц в пространстве • Диагностирование и «гимнастика» пучка • Минимальные собственные искажения в первоначальное распределение частиц. Рис.1 Pitz Deflettor.

  4. Постановка задачи • Конкретная отклоняющая структура • Вариации по толщине диафрагмы и радиусу апертуры • Электродинамические характеристики • Численное моделирование • Критерий линейности поля Рис.2 Рассматриваемая ОС

  5. Детализация модели и методы решения • Использование CST MWS • Полученные данные • Использование MatlabR2011b • Характеристики системы: • Частота ~ 2997.9e+06 Гц • Фазовая скорость ~ 0.9957с • Радиус апертуры – 13-28мм • Толщина диафрагмы – 5.4; 8.1; 10.8; 16.2 мм. Рис.3 Создание модели Рис.4 Распределение Электрического поля Рис.5 Проекции полей на оси координат

  6. Полученные результаты • Добротность Рис.6 Плоскость зависимости добротности Q от радиуса апертуры и толщины диафрагмы Рис. 7 Линии зависимости добротности Q от радиуса апертуры при различных толщинах диафрагм

  7. Полученные результаты • Поперечное шунтовое сопротивление Рис. 8 Плоскость зависимости поперечного шунтового сопротиления от радиуса апертуры и толщины диафрагмы Рис. 9 Линии зависимости поперечного шунтового сопротивлени от радиуса апертуры при различных толщинах диафрагм

  8. Полученные результаты • Отношение максимальной амплитуды напряженности Z-й компоненты электрического поля к отклоняющему Ed Рис. 10 Плоскость зависимости Ez/Ed от радиуса апертуры и толщины диафрагмы Рис. 11 Линии зависимости Ez/Ed от радиуса апертуры при различных толщинах диафрагм

  9. Полученные результаты • Групповая скорость Рис. 12 Плоскость зависимости групповой скорости от радиуса апертуры и толщины диафрагмы Рис. 13 Линии зависимости групповой скорости от радиуса апертуры при различных толщинах диафрагм

  10. Полученные результаты • Максимальное отклонение фазы Ed от линейности Рис. 14 Плоскость зависимости Max(Ф-kz) от радиуса апертуры и толщины диафрагмы Рис. 15 Линии зависимости Max(Ф-kz) от радиуса апертуры при различных толщинах диафрагм

  11. Полученные результаты • График зависимости радиуса апертуры от толщины диафрагмы при минимальном значении модуля групповой скорости, максимально приближенном к 0.

  12. Полученные результаты • График максимального отклонения распределения фазы от линейного в зависимости от толщины диафрагмы структуры.

  13. Сравнение с зарубежными аналогами Таблица ВЧ характеристики 2х зарубежных аналогов График сравнения зависимости максимального отклонения фазы Edот толщины диафрагмы

  14. Заключение • Получен и отлажен аппарат для моделирования ОС • Вычислены ВЧ характеристики • Используя данную структуру с толщиной диафрагмы 5,4 mm и радиусом апертуры 19 mm, получено минимальное отклонение от линейности 1,47 deg • 2-5 раз меньшее искажение отклоняющего поля в сравнении с зарубежными аналогами

More Related