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非平衡载流子. 非平衡载流子的注入与复合. 非平衡载流子的寿命. 准费米能级. 复合理论. 载流子的扩散运动. 1 、非平衡载流子的注入与复合. 半导体的热平衡状态 : 半导体不受除温度以外的外界条件作用 的状态,载流子浓度是一定的, n 0 ·p 0 = N c ·N v e ( -Eg/ k 0 T ) = n i 2 (5-1) 平衡载流子 : 处于热平衡状态下的载流子。 平衡载流子浓度 : 处于热平衡状态下的载流子浓度。 非平衡状态 : 半导体受到外界条件作用,
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非平衡载流子 • 非平衡载流子的注入与复合 • 非平衡载流子的寿命 • 准费米能级 • 复合理论 • 载流子的扩散运动
1、非平衡载流子的注入与复合 半导体的热平衡状态:半导体不受除温度以外的外界条件作用 的状态,载流子浓度是一定的, n0·p0= Nc·Nv e(-Eg/ k0T) = ni2 (5-1) 平衡载流子:处于热平衡状态下的载流子。 平衡载流子浓度:处于热平衡状态下的载流子浓度。 非平衡状态:半导体受到外界条件作用, 处于偏离热平衡的状态。 非平衡载流子:半导体处于非平衡状态时 比平衡状态多出来的这部分载流子。 非平衡载流子浓度:比平衡状态多出来的 载流子的浓度. 非平衡自由电子:Δn 非平衡自由空穴:Δp
1、非平衡载流子的注入与复合 • 非平衡多数载流子:与半导体多数载流子类型相同的非平衡载流子。 n型:非平衡电子Δn 。 P型:非平衡空穴Δp。 • 非平衡少数载流子:与半导体少数载流子类型相同的非平衡载流子。 n型:非平衡电子Δp。 P型:非平衡空穴Δn 。 • 电阻率为1Ω·cm的n型Si中,σ= nqμn p0 = ni2 / n0 n0≈5.5×1015cm-3; p0≈3.1×104cm-3; Δn =Δp=1010cm-3, Δn《n0; Δp是p0的106倍,Δp》p0。 • 非平衡少数载流子起重要作用 附加电导率:Δσ=Δnqμn+Δpqμp (5-3)
1、非平衡载流子的注入与复合 非平衡载流子的测量: 附加电导率: Δσ=Δnqμn+Δpqμp (5-3) 可通过测量电导率,电压降的方法检 测非平衡载流子注入。 平衡载流子的注入(产生): 光照、电场、磁场。 非平衡载流子的复合 产生非平衡载流子的外部作用撤除后,半导体由非平衡状态回复到平衡状态,非平衡载流子逐渐消失的过程。
2、非平衡载流子的寿命 • 非平衡载流子的寿命τ:非平衡载流子的平均生存时间。 • τ:非平衡载流子的复合几率的倒数。 • 复合几率:1/τ • Δp(t)=(Δp)0e-t/τ (5-6) • 非平衡载流子浓度随时间按指数衰减。 • 取t=τ;得到,Δp(τ)=(Δp)0/e • 非平衡载流子寿命指非平衡载流子浓度减少到原值的1/e所需的时间。寿命长,衰减慢,寿命短,衰减快。 • 不同材料的非平衡载流子寿命不同。 • 完整的Ge:104μs;Si:103μs;GaAs:10-8-10-9s。 • 非平衡载流子的寿命测量:直流光电导衰减法、高频光光电导衰减法。
3、准费米能级 • 热平衡状态下: • 半导体具有统一费米能级。 • n0=NC·exp[-(Ec-EF/k0T)] • p0= Nv·exp[ -(EF-Ev /k0T)] • n0·p0= Nc·Nv e(-Eg/ k0T) • 非平衡状态下: • 半导体没有统一的费米能级,分裂为两个“准费米能级”。 • 导带的准费米能级:电子准费米能级 EnF; • 价带的准费米能级:空穴准费米能级 EpF。 • 导带的电子浓度:n=NC·e[- (Ec-EnF)/k0T] (5-9) • 价带空穴浓度:p= Nv·e[-(EpF- Ev)/k0T] (5-9)
3、准费米能级 非平衡载流子越多,准费米能级偏离Ei就越远。 对于n型,在小注入条件下: Δn《n0,有n>n0,且n≈n0,EnF比EF更靠近导带,偏离小。 Δp》p0,p》p0,EpF比EF更靠近价带,且偏离大。 n · p= n0·p0 exp(EnF-EpF/ k0T) = Nc·Nv e(-Eg/ k0T)exp(EnF-EpF/ k0T) (5-11) EnF与EpF偏离的大小直接反映了半导体偏离平衡状态的程 度,偏离越大,说明不平衡情况越显著;偏离越小,越靠近平衡 状态。
4、复合理论 • 直接复合:自由电子在导带与价带直接 • 跃迁而引起的非平衡载流子的复合。 • 间接复合:非平衡载流子通过禁带中的 • 能级(复合中心)进行的复合。 • 复合中心:对复合起促进作用的杂质 • 和缺陷。 • 载流子产生:吸收能量;载流子复合:释放能量 • 能量释放方式有: • 1.发射光子: 辐射复合,有发光现象。E=hv;λ=hc/E =1240/E (nm) • 2.发射声子:载流子将多余的能量传给晶格,加强晶格振动。 • 3.将能量给予其它载流子,增加它们的动能,称为俄歇复合。
4、复合理论 产生率:单位时间,单位体积内产生的电子-空穴对数目。 复合率:单位时间,单位体积内复合掉的电子-空穴对数目。 非平衡载流子的寿命τ:非平衡载流子的平均生存时间。 τ:非平衡载流子的复合几率的倒数。 复合几率:1/τ 复合率=Δn/τ或Δp/τ 净复合=复合率-产生率 稳定情况下:复合率=产生率=Δn/τ
4、复合理论 (1)直接复合: 电子从导带直接跃迁到价带的复合 τ = 1/ r[(n0+ p0)+Δp] (5-17) r:电子-空穴复合几率 小注入情况下: Δp远小于(n0+ p0),得: τ = 1/ r(n0+ p0) 对于n型半导体; τ = 1/ rn0 对于p型半导体:τ = 1/ rp0 寿命:复合几率;多数载流子浓度。 本征Ge和Si,理论计算: Ge: r=6.5×10-14cm-3/ s, τ=0.3s 实际:104μs Si: r=10-11cm-3/ s, τ=3.5s 实际:103μs 非平衡载流子寿命主要不是由直接复合决定,另外的一些复合机制起主要作用。
4、复合理论 (2)间接复合:非平衡载流子通过禁带中的 能级(复合中心)进 行的复合。半导体杂质和缺陷越多,寿命越短。 小注入情况下: 对于n型半导体:τ=1/rpNt (5-38) rp:空穴俘获系数, Nt :复合中心浓度 对于p型半导体:τ=1/rnNt (5-40) rn:电子俘获系数,Nt :复合中心浓度 P127页: n型Si 中的金杂质 寿命主要由空穴俘获系数和杂质浓度决定 rp=1.15×10-7cm3/s Nt=5×1015 cm-3 τ=1/rpNt = 1.7×10-9s p型Si中的金杂质 rn=6.3×10-8cm3/s τ=1/rnNt = 3.2×10-9s 半导体杂质和缺陷越多,寿命越短。 控制杂质浓度和缺陷,可控制少数载流子的寿命。 半导体杂质和缺陷浓度低,少数载流子的寿命长。 (3)表面复合,俄歇复合。 表面状态好,少数载流子的寿命长。
4、复合理论 • 陷阱效应:某些杂质或缺陷能级积累非平衡载流子的作用。 陷阱中心:有显著陷阱效应的杂质能级或缺陷。 陷阱效应大大增长了从非平衡态恢复到平衡态的时间。 电子陷阱:费米能级以上的能级,越接近EF,陷阱效应越明显。空穴陷阱:费米能级以下能级,越接近EF,陷阱效应越明显。 • 陷阱中心往往是一些深能级杂质,深能级杂质越多,非平衡载流子的驰豫时间越长,寿命越长。 p型Si有两种陷阱: (Ec-Et1)=0.79eV (Ec-Et2)=0.57eV A:导带中电子复合 B:浅陷阱电子的衰减 C:深陷阱电子的衰减
5、载流子的扩散运动 扩散运动表现为微观粒子的有规则运动,本质是粒子的无规则运动造成的。条件:粒子浓度不均匀 平衡状态的半导体不表现出载流子扩散运动,但在非平衡状态下,载流子发生扩散运动。
5、载流子的扩散运动 扩散流密度:单位时间通过单位面积的粒子数。S= -D·d Δp(x)/dxD:扩散系数,cm2/s。反映了载流子的扩散能力。
5、载流子的扩散运动 D:扩散系数,cm2/s。反映了载流子的扩散能力。 不同的材料,不同的温度的扩散系数不同。 空穴扩散流密度Sp= -Dp·dp(x)/dx, 电子扩散流密度Sn= -Dn·dn(x)/dx, 非平衡载流子稳态扩散非平衡载流子在半导体内部的浓度保持不变,形成稳定的分布,称为稳定扩散。
5、载流子的扩散运动 分析从x到x+dx的典型薄层:体积=Sdx, 薄层内非平衡载流子浓度近似均匀为Δp(x),薄层内非平衡载流子数目 Δp(x)=Sdx·Δp(x), 由复合率:Δp(x)/τ= Sdx·Δp(x)/τx处每秒扩散进的空穴数目=S(-Ddp/dx)x=SD(-dp/dx)xx+dx处每秒扩散出去的空穴数目=SD(- dp/dx)x+dxSD(-dp/dx)x - SD(- dp/dx)x+dx Sdx·Δp(x)/τ两边除以Sdx得到:D[(dp/dx)x+dx - (dp/dx)x]/dx=Δ p(x)/τ稳态扩散方程:Dd2p(x)/dx2=Δp(x)/τ(5-81)
稳态扩散方程 Dd2p(x)/dx2=Δp(x)/τ (5-81) 解:Δp(x)=Aexp(-x/L)+Bexp(x/L) (5-82) L= (Dτ) 1/2: (5-83) 载流子的扩散长度 由扩散系数和非平衡载流子的寿命决定。空穴:Δp(x)=Aexp(-x/Lp)+Bexp(x/Lp) Lp= (Dpτ) 1/2,空穴扩散长度电子:Δn(x)=Aexp(-x/Ln)+Bexp(x/Ln) Ln= (Dnτ) 1/2,电子扩散长度(1)样品足够厚的情况下:x无穷大时,Δp(∞)=0 Δp(x)=Aexp(-x/L) 当x=0时,Δp(0)=(Δp)0有:Δp(x)=(Δp)0 exp(-x/L) L表示非平衡载流子在边扩散边复合的过程中,减少到表面浓度的1/e时的扩散距离。空穴:Δp(x)=(Δp)0 exp(-x/Lp) (5-83) 电子:Δn(x)=(Δn)0 exp(-x/Ln) (5-84)(Δp)0、(Δn)0分别指x=0处的非平衡载流子浓度
非平衡载流子扩散电流密度= q·扩散流密度 空穴扩散电流密度: 样品足够厚:x=0:
5、载流子的漂移运动 载流子的漂移运动J=Jn+Jp =σ·|E| =( nqμn+pqμp)|E| 对于n型半导体,σ= nqμn 对于p型半导体,σ= pqμp有非平衡载流子时,除平衡载流子外,非平衡载流子对漂移电流也有贡献。 电子漂移电流密度:(Jn)漂=q(n0+Δn)μn|E| = nqμn|E| (5-109) 空穴漂移电流密度:(Jp)漂=q(p0+Δp)μp|E| = pqμp|E| (5-110)
5、载流子的漂移运动 爱因斯坦关系式D=(k0T/q)μ (5-123)D:cm2/s; u:cm2/Vs; K0T/q:V Dn=(k0T/q)μn;Dp=(k0T/q)μp非简并情况下载流子迁移率和扩散系数的关系。Si :μn=1400cm2/Vs;μp=500 cm2/Vs; 300K ≈ 0.026V Dn≈35cm2/s; Dp≈13cm2/s。
重点: 1、非平衡载流子的产生与复合 2、扩散流密度S = -D·dn(x)/dx 3、爱因斯坦关系式 D=(k0T/q)u 4、稳定状态下的非平衡载流子浓度分布n(x)=Aexp(-x/L)+Bexp(x/L) 5、L=(Dτ)1/2 6、样品足够厚 ΔP(x)=(ΔP)0exp(-x/L) 7、非平衡载流子扩散电流密度: x=0: