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10. Kr. +F. +. -. エネルギー. (eV). エキシマ. 5. KrF*. レーザ光. KrF. Kr+F. 解離. (nm). 0.1. 0.7. 原子核間距離. 2.4 エキシマレーザ. エキシマ (excimer) :励起状態でのみ存在できる分子. Ar:Kr:F 2 =90:9.5:0.5. 放電励起 Ar + e → Ar* + e Kr + e → Kr* + e Ar* + F 2 → ArF* + F Ar F*+ Kr → KrF* + Ar.

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Presentation Transcript
slide1

10

Kr

+F

+

-

エネルギー

(eV)

エキシマ

5

KrF*

レーザ光

KrF

Kr+F

解離

(nm)

0.1

0.7

原子核間距離

2.4 エキシマレーザ

エキシマ(excimer):励起状態でのみ存在できる分子

Ar:Kr:F2=90:9.5:0.5

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放電励起

Ar + e → Ar* + e

Kr + e → Kr* + e

Ar* + F2 → ArF* + F

Ar F*+ Kr → KrF* + Ar

@ 基底状態において分子を形成しにくいもの,すなわちエキシマになりうる分子

   希ガス同士 or 希ガス+ハロゲン

@ 下位準位の分子は自然に解離するため下位準位は常に空っぽ

@ 波長が紫外域で大出力,高効率の可能性がある

@ エキシマの自然寿命は約10nsであるため,立ち上がりの速い短パルス高電圧源によるポンピングが必要

@ 紫外光は分子結合を直接切断できる

slide3

エキシマレーザ光の応用

@ 高速度の微細加工(レーザ光が照射された個所のみ瞬間的に加工)

  @ LSI加工(被加工物を加熱しない)

  @ レーザ核融合(高効率・大出力が可能)