機器利用講習会「超微細光学素子を作る」

機器利用講習会「超微細光学素子を作る」 （1日目）電子ビーム描画装置による回折格子のレジストパターン作製実習大阪府立産業技術総合研究所フォトニクス開発支援センター

本日の予定 • 簡単な電子ビーム描画装置及び本日行う作業の説明 • 石英基板にレジスト塗布およびEB装置に導入 • お昼休み（真空引き待ち） • EB装置の光学系調整および描画の開始 • ファイルの変換作業の説明（EB描画中、省略する場合あり） • 現像作業 • 作製した素子のSEM観察 • ＊青字はクリーンルーム内で作業

電子ビーム描画装置 JBX-5000SI 電子線源　　　　　 LaB6 加速電圧25KV or 50KV 試料サイズホルダーによる最小ビーム径　　　 8nm つなぎ精度60nm/40nm 重ね合わせ精度60nm/40nm 描画方式　ベクトルスキャン日本電子株式会社製

本日作製する素子 基板：1インチ角（25mm×25mm）石英レジスト：NEB－22A2 パターン：200nm&200nm line&space 200nm L&S 200周期 5mm 20μm 5μC/cm2 → 9μC/cm2 80μm

レジストの種類と選択 デジタル型レジストアナログ型レジスト

露光 EB 現像現像ポジ型レジストとネガ型レジストポジネガ露光 EB

実際のプロセス（基板洗浄済み） OAPおよびレジスト塗布エスペーサ水洗プリベーク PEB エスペーサ塗布および乾燥現像電子線描画完成

パターンの準備 必要ならばエッチング微細加工フローチャートレジストの選択描画時間計算必要ならばエスペーサー塗布基板の洗浄レジスト塗布 EB装置の調整 EB描画現像性能評価

パターンファイル（j01ファイル）について 目的のパターンを所定のフォーマットで作成する必要があります。フォーマットにはいくつか種類がありますが、今回はテキスト形式でパターンを作成できるj01フォーマットを用います。作成したファイルは、EB装置が理解できる形に変換する必要があります。今回用いるj01ファイル

convプログラム j51ファイルパターンチェック preadプログラムパターンファイルの変換とは作成したパターンファイルをEBが理解できる形式に変換する必要があります。時間があれば作業を行います。 j01、x01、GDSⅡパターンファイル pchk6プログラムスキャナーデータ

cmplプログラム schdプログラムジョブデックファイル＋レイヤーファイルスケジュールファイルマガジンファイルジョブデックファイル、スケジュールファイルとはパターンを基板上のどの位置に描画するか等の情報を記述するものがjdf、sdfです。これらのファイルをコンパイルすることにより、最終的にマガジンファイル（実行）ファイルを作成します。

ステージ座標について (-30500, 30500) (30500, 30500) (0, 0) (-30500, -30500) (30500, -30500)

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