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概要：　ナノ電極の作製法

概要：　ナノ電極の作製法. 高分子膜による逐次被覆. ガラス封入白金線のＨＦによる溶出. 器用さに依らない 高い 成功率　 (3/4) 直径： 1 nm - 5 mm 6 時間連続使用 15 時間の乾燥 / 使用繰り返し. 利点. 物理 化学的面白さ Fc は 450 MV s -1 でも可逆、 k o = 2700 cm s -1 に相当. 作製法. エタノール＋水で白金線を溶解 白金線をガラスに封じ込め 封じ込めガラスを粗研磨 交流測定 に よる制御研磨 HF 中でガラスの化学溶出 加熱 安定化. エタノール＋水で白金線を溶解.

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概要：　ナノ電極の作製法

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Presentation Transcript

  1. 概要：　ナノ電極の作製法 高分子膜による逐次被覆 ガラス封入白金線のＨＦによる溶出 器用さに依らない高い成功率　(3/4) 直径： 1 nm - 5 mm 6 時間連続使用 15 時間の乾燥/使用繰り返し 利点 物理化学的面白さ Fcは450 MV s-1でも可逆、ko = 2700 cm s-1に相当

  2. 作製法 • エタノール＋水で白金線を溶解 • 白金線をガラスに封じ込め • 封じ込めガラスを粗研磨 • 交流測定による制御研磨 • HF中でガラスの化学溶出 • 加熱安定化

  3. エタノール＋水で白金線を溶解 3 MCaCl2: エタノール+水 5 V, 60 Hz 6 MNaNO2, 5 V, 60 Hz 粘性低い→　対流大きい

  4. Poten- tiostat AC 0.1V, 1 KHz Lock-in amplifier PC Pt wire Pt coil 0.1M KCl Emery paper (b) (a) (c) 交流測定による制御研磨

  5. 露出研磨時間の変化

  6. ガラスのHFによる溶解＋加熱85度 電極の 大きさの制御困難

  7. CV 2.1 mM FcTMA 4.7 nm 5.3 mM Fc2.8 nm

  8. 安定性 10 / pA 5 L ６時間連続CV FcTMA水中 I CV→　洗浄→　50度乾燥→　40分放置 0 0 2 4 6 0.4 / h t / nA L I 0.2 0 0 5 10 15 h t /

  9. ネルンストプロット 0 0.1 0.2 1 )] Fc I - L I ( 0 I / log[ FcTMA -1 0.3 0.4 0.5 E / V vs. Ag|AgCl

  10. 半波電位 FcTMA 0.1 0.4 / V vs.Ag|AgCl E1/2(FcTMA) = 0.404  0.025 V E1/2(Fc) = 0.056  0.004 V Fc 1/2 E 0 0.3 0 1 2 3 log( / nm) a

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