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成果名称：：ＰＤＰ用ＭｇＯ粉体及陶瓷制备

成果名称：：ＰＤＰ用ＭｇＯ粉体及陶瓷制备. 成果发布人：曹林洪 成果发布单位：西南科技大学材料科学与工程学院 功能陶瓷课题组. 项目简介. 该项目来源于国家高技术研究发展计划 (863 计划 ) 新材料技术领域 “ 新型平板显示技术 ” 重大项目 “ PDP 用 MgO 晶体材料技术研究及产业化（ 2008AA03A325 ） ” 项目的子项目 “ PDP 用 MgO 多晶陶瓷的烧结研究 ” （ 09zg1101 ）资助。

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成果名称：：ＰＤＰ用ＭｇＯ粉体及陶瓷制备

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  1. 成果名称：：ＰＤＰ用ＭｇＯ粉体及陶瓷制备 成果发布人：曹林洪 成果发布单位：西南科技大学材料科学与工程学院 功能陶瓷课题组

  2. 项目简介 • 该项目来源于国家高技术研究发展计划(863计划) 新材料技术领域“新型平板显示技术”重大项目“PDP用MgO晶体材料技术研究及产业化（2008AA03A325）”项目的子项目“PDP用MgO多晶陶瓷的烧结研究”（09zg1101）资助。 • 采用溶液（ＣＨＭ、水热及共沉淀）合成方法制备了六方、立方以及球形ＭｇＯ纳米粉体，采用普通烧结炉在较低温下制备了高致密高纯度的ＭｇＯ陶瓷。 • 在700℃低温煅烧后获得的MgO粉体晶粒尺寸为17.2nm，采用该MgO纳米粉在1300℃烧结陶瓷相对密度达到98.2%。 • 该项目具有工艺简单、产品稳定性好、成本低，适合工业化批量生产。

  3. 一、应用背景 • 80年代末“便携式计算机”的发展促进了液晶显示技术的巨大 产业化，引发相关材料研究热潮。 • 90年代日本的FPD工业又掀起了两大热点： • 彩色液晶显示技术（LCD） 彩色等离子显示技术（PDP） • 2009年松下推出全球最薄( 24.7mm )的NeoPDP面板，数字信息化时 代的今天，高清晰度等离子显示技术存在巨大的商业市场。

  4. 一、应用背景 • 氧化镁被用做保护膜： • 耐高温（熔点2800℃）、抗溅射（升华热H=5.69×10-6J/Kg·mol） • 二次电子发射系数高（σ=0.55）等 • 满足PDP的特性要求： • （1）长时间稳定性；（2）低工作电压；（3）透光性好 • （4）绝缘性能优良；（5）合理可行的涂覆方法； • （6）快速放电反应；（7）邻近放电干扰低。

  5. 一、应用背景 CEL材料 氧化镁晶体 PDP用微晶 氧化镁陶瓷 PDP用靶材

  6. 二、氧化镁晶体的制备研究 硝酸镁 氢氧化镁 CHM法 氧化镁 NaOH/KOH 碳酸镁/碱式碳酸镁 硝酸镁 尿素 水热法 氧化镁

  7. 1、CHM法生长晶体 煅烧氢氧化镁得到氧化镁晶体： 物质的量 (a)5mmol、(b) 10mmol、(c) 20mmol、(d) 30mmol 氧化镁晶体与前驱体具有相同的形貌，结晶性较好 氧化镁的SEM和XRD对比图

  8. 1、CHM法生长晶体 10mmol的Mg(NO3)2·6H2O得到的Mg(OH)2晶体和MgO晶体的SEM图 氢氧化镁 氧化镁

  9. 硝酸镁 尿素 混合 高压釜 蒸馏水 高温煅烧 氧化镁 前驱体 过滤 加热反应 2、水热法生长晶体 以Mg(NO3)2·6H2O和尿素为原料，水做水热介质，通过水热法在高压釜中生长MgCO3/ Mg5(OH)2(CO3)4·4H2O微晶 水热法生长MgO晶体流程图

  10. 2、水热法生长晶体 2.1 尿素与镁离子物质的量配比对前趋体的影响 (a)1:1、(b)2:1、(c)3:1、(d)4:1 生长得到前驱体的SEM和XRD对比图

  11. 2、水热法生长晶体 将前驱体缓慢升温，煅烧得到氧化镁晶体的SEM与XRD对比图 氧化镁晶体与前驱体具有相同的形貌，得到了立方外形的氧化镁晶体，晶体的结晶性较好 前驱体煅烧后的SEM和XRD对比图

  12. 二、氧化镁陶瓷的制备研究 1、煅烧温度的确定 将碱式碳酸镁在不同的温度条件下煅烧： 煅烧温度升高： （1）结晶性增强 （2）晶粒增大 煅烧后氧化镁粉体的XRD图：(a) 700℃、(b)800℃、(c)900℃、(d)1000℃

  13. 3、升温速率的确定 三组不同的MgO粉体升温速率：5℃/min 、10℃/min、20℃/min、30℃/min 可制得相对密度大于98%的氧化镁陶瓷

  14. 敬请指导 谢谢各位

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