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CdL Scienza dei Materiali - Fisica delle Nanotecnologie - a.a. 2002/3 Appunti & trasparenze - Parte 4 Versione 1, Ottobre 2002 Francesco Fuso, tel 0502214305, 0502214293 - fuso@df.unipi.it http://www.df.unipi.it/~fuso/dida.

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28/10/2002 - 8.30+2 ch10

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  1. CdL Scienza dei Materiali - Fisica delle Nanotecnologie - a.a. 2002/3 Appunti & trasparenze - Parte 4 Versione 1, Ottobre 2002 Francesco Fuso, tel 0502214305, 0502214293 - fuso@df.unipi.it http://www.df.unipi.it/~fuso/dida • Cenni sulle proprietà ottiche di nanoparticelle; proprietà ottiche di eterostrutture e strutture a confinamento quantico (MQW, QW, QD). Silicio poroso. Cenni su laser a diodo (eterogiunzione, VCSEL, quantum cascade) e su cristalli fotonici. 28/10/2002 - 8.30+2 ch10

  2. Interazione radiazione/nanoparticelle • Grossolanamente: • effetti di coerenza nella luce scatterata già per l ~ size; • effetti di confinamento quantico per l << size(mean free path in metalli, formazione di eccitoni in semiconduttori,...) Effetti dell’interazione (“colore”) dipendono dalle dimensioni delle nanoparticelle e dalla loro spaziatura See MRS Bull. 26 (2001) Anche forti effetti nonlineari (e dipendente da E) ad es. utili per diagnostica Fotoluminescenza (PL) di quantum dots di diverse dimensioni

  3. Confinamento quantico: superreticoli e MQW Superreticolo: alternanza di strati di semicond. diversi (tip. cresciuti per MBE) Multiple Quantum Wells: superreticolo con spaziatura sufficiente a impedire tunneling (proprietà ottiche --> size legata a lrad , non ldB!!) Da Bassani Grassano, Fisica dello Stato Solido, Boringhieri (2000) Crescita di eterostrutture --> matching reticolare (pseudomorf.) --> strain/stress --> critical thickness (e dislocazioni)

  4. Confinamento quantico 2DEG in MQW Da Yu and Cardona Fundamentals of Semicond. Springer (1996) Barriere di potenziale in MQW spessore typ. > 2 nm spessore typ. < 2 nm Leghe stabili Crescita pseudomorfica possibile Bandgap enigineering possibilità di tunare gli effetti di confinamento Es.: A=GaAs (EgA ~ 1.5 eV, lattice 5.653 Å) B=AlAs (EgB ~ 2.3 eV, lattice 5.62 Å) opp. B=Ga1-xAlxAs (con x typ. ≤ 0.3)

  5. Livelli e subbands in MQW, Da Bassani Grassano, Fisica dello Stato Solido, Boringhieri (2000) subbands DOS 2D eq. di Schrödinger onde piane lungo x ed y heavy and light holes Sistema discreto di sottobande (con rimozione deg.) buca infinita

  6. Da Bassani Grassano, Fisica dello Stato Solido, Boringhieri (2000) Nanostrutture 1D e 0D (quantum wires and dots) InP islands grown on and capped with InGaP (fabbricate via MetallOrganic VaporPhaseEpitaxy) AFM images Ridotta dimensionalità --> engineered level scheme (tip. E nel range ottico) See Hessmann et al. APL 68 (1996)

  7. Cenni sugli eccitoni Coppie elettrone-buca (ad es., generate via photon absorption) possono dare origine a sistemi legati (per forza Coulomb.): eccitoni In sistemi a conf. quant. si ha alta prob. di avere eccitoni (per overlap f.ni d’onda e-h ) atomi artificiali con livelli idrogenoidi Ricombinazione eccitoni --> fotoni utilizzo in optoelettronica (es. laser a diodo)

  8. Laser a diodo e VCSEL Laser a diodo a eterogiunzione (tradizionale) Distributed Bragg Reflector structure guida d’onda cavità l ~ 650-850 nm Emissione legata a ric. eccitoni (grande guadagno, tunabilità,…) QD-Vertical Cavity Surface Emitting Laser See MRS Bull. 27 (July 2002) Vantaggi VCSEL: cavità corta --> qualità ottica, indipendenza dalla temp., piccole dimensioni --> bassa soglia, efficienza, … emissione superficiale --> integrazione, densità, ... l ~ 1.3 mm

  9. Quantum cascade laser

  10. Silicio poroso (e nanocristalli di Si) Fotoluminescenza di µ-cavità di po-Si: analisi SNOM --> aggregati di nanocristalli di Si Silicio cristallino: transizione indiretta (bassa efficienza) Da F.F. et al., J. Appl. Phys 91 5405 (2002) See Amato et al. Struct. and Opt. Prop. of Po-Si nanostructures (Gordon and Breach (1997) HRTEM PL SNOM TEM nanocrystalline regions TE diffraction 100 nm 1.8 nm po-Si ottenuto per etching elettrochimico del cristallo bulk

  11. Cenni su cristalli fotonici See MRS Bull. 26 (Aug 2001) Micro e nanofabbricazione per dispositivi in campo ottico See http://nccr-qp.epfl.ch/qpproject9.htm

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