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2007 / 1 / 24. 束縛系 QED 高次補正の検証: オルソポジトロニウムの崩壊率の精密測定. 片岡 洋介. Contents Introduction Setup Analysis Conclusion. 1. Introduction. Motivation. オルソポジトロニウム (o-Ps) spin triplet の e + , e - の束縛系、 約 142ns で 3γ に崩壊する 崩壊率は、ほぼ完全に QED によって記述される 束縛系 QED のよいプローブ o-Ps 崩壊率の計算
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2007 / 1 / 24 束縛系QED高次補正の検証:オルソポジトロニウムの崩壊率の精密測定 片岡 洋介 • Contents • Introduction • Setup • Analysis • Conclusion
Motivation • オルソポジトロニウム(o-Ps) • spin tripletのe+, e-の束縛系、約142nsで3γに崩壊する • 崩壊率は、ほぼ完全にQEDによって記述される 束縛系QEDのよいプローブ • o-Ps崩壊率の計算 • 束縛系は自由粒子と異なり非摂動論的、高次補正の計算が難しい • 計算手法の発達でO(α2)補正項の計算が可能になった 2000 G.S.Adkins et. al. O(α2)補正項 = 240ppm ~ 現在の実験精度 • 本実験の動機 • さらに実験精度を向上させ、O(α2)の補正項を検証する
測定手法 • 基本的な測定法 • 陽電子をターゲットの物質へ入射、o-Psを生成 • フリースペースへ放出されたo-Psが3γ崩壊 • この時間差を計る pick-off annihilation ~物質との相互作用による対消滅 観測される崩壊率: λobs=λ3γ+λpick • pick-offの補正方法 • 外挿法(ミシガン大) ~ ターゲット密度を変えて真空まで外挿する方法 • ターゲットとしてガスやCavity表面を使用 • pick-off直接補正(東大) ~ pick-offを直接測定し補正する方法 • pick-offと3γ崩壊の分離は、2γ,3γのエネルギー分布の違いを利用する 利点① pick-offの時間依存性を含めることができる 利点② 密度に対するlinearityを要求しない
O(α2) QED Gas without O(α2) correction SiO2 Cavity Gas Gas Gas Cavity Gas Cavity SiO2 Cavity SiO2 崩壊率測定の歴史 • 外挿法(ミシガン大) • systematicなズレ(o-Psの寿命問題) • 熱化にかかる時間 • の見積もりに問題があった • 熱化過程を正確に扱うことが重要 pick-off直接補正(東大) 外挿法(ミシガン大) pick-off直接補正(東大) 現在では、2つの実験手法とも 約200ppmの精度でQEDの計算値を支持 次の焦点はO(α2)補正項の検証
セットアップの概要 セットアップ 線源まわり セットアップ設計の指針 ① 高統計化 前回の測定: 1年の測定時間で統計誤差170ppm ② さらに時間特性(分解能)に優れたシステム 前回の測定: 崩壊時間100ns未満の領域で 崩壊率の上昇が見られた prompt(t=0)付近で systematicな上昇 測定室は±0.5℃
セットアップの構成 Side View • セットアップの構成 • ① Ps formation assembly • (線源、シリカ) • ②YAPシンチレータ • タイムスペクトラム測定用 • 時間分解能σ=1ns (E>150keV) • ③Ge検出器 • pick-off ratio測定用 • エネルギー分解能σ=0.5keV @0.5MeV
½インチPMT(トリガー用) 1インチPMT (アンチトリガー用) ライトガイド プラシン (1mm) 68Ge 105mm e+ シリカパウダー 65mm Ps formation assembly • 陽電子線源 前回の測定 22Na 68Ge (Endpoint 1.7MeV) この線源に基づいて設計 • トリガー • 薄いプラシン(200μm)で線源を挟む • アルミナイズドマイラーで光収集 • アンチトリガー • 約半数のe+がシリカを抜ける DAQレートを圧迫 • 円筒形プラシン(1mm)で陽電子を捕捉 トリガーをveto
signal shape (FADC) τ= 230ns τ= 30ns YAPシンチレータ シンチレータの選択 ① 高統計化(線源強化)のためにpile upを減らす ② 時間分解能をさらに小さくする • 高速なYAPシンチレータを採用 • pile upを一桁抑制 • 時間分解能 1ns (E>150keV) 前回のシンチ size: 50mm×50mm×33mm
シリカエアロジェル (0.03g/cm3) シリカパウダー (0.035g/cm3) データサンプル • 異なるタイプのシリカターゲットで2回測定 • 2005 autumn RUN I シリカエアロジェル • 2006 spring RUN II シリカパウダー シリカの凝集構造 SiO2 grain ~ 10nm ρ0=2.2g/cm3 • pick-offは、密度よりフリースペースの大きさに依存 • 内部構造の異なる物質での測定は、 • 実験手法のsystematicなtestとなる
Thr50mV Thr150mV prompt event 検出時間 ΔT=Thr150mV-Thr50mV -50mV(~50keV) 150ns -150mV(~150keV) 立ち上がり時間 Time Walk 補正 for Ge • 時間軸の基準 prompt event (e+ annihilation, p-Ps) を使う • 補正に使う変数 測定した立ち上がり時間: Thr150mV-Thr50mV slow rise component (SRT) 時間特性が非常に悪いためカット 時間分解能 σ=5ns
SRT cut 前後 SRT cut前 SRT cut後 prompt なだれ込み 3γ SRT cut efficiency • 3γのMC dataにapplyする必要がある • efficiencyをdataから求める 3γ SRT cut efficiency エネルギー依存性 ほぼ純粋に3γの領域 MC 3γ dataにapply
Geエネルギースペクトラム RUN I (aerogel) normalize (MC) pick off 2γの分離 • MC simulation (Geant4) で生成した3γ spectrumを利用する • 3γSRT cut efficiencyをapply • 480keV-505keVでnormalize • o-Ps spectrumから差し引く ~ 0.14 (MCで評価) pick-off ratio
RUN II (powder) normalize (MC) • RUN IIも同様にpick off 2γの分離 RUN I (aerogel)と比べ pick offの大きさが約 • 内部構造の違いを示唆 • パウダーの方が凝集構造が強く • フリースペースの間隔が大きい
pick-off ratio RUN II (パウダー) RUN I (エアロジェル) 熱化過程を反映 • decay rate fitting 関数への組み込み • 解析的な関数(4 parameter)でfitting
fitted parameter • エラーの伝播の評価 • ① 各parameterを±1σずらして固定、 • 他のparameterをfitし直す • ② 得られた関数でdecay rateを求める • ③ decay rateの変化(σi)をエラーの伝播とする decay rate fitting 関数に組み込み pick-offの補正がかかる pick off 関数の不定性
Time Walk 補正 for YAP • 優れた時間特性により、Time Walkは小さい • エネルギーを変数としてTime Walk補正 • 150keV以上をdecay rate fittingに使う • 時間分解能 1.2ns • 150keV以下はカット • Time Walk大きい
Time Spectrum of YAP σ=1.2ns fitting region tstart (scan) 3600ns (fixed) Fitting function: pick-off ratio(測定値) free parameters: N0, λ3γ, C YAPのefficiency~0.7 (MCで評価)
TDC Non-linearity • 2GHz clock type TDC • full range は専用のモジュールでcalibration • Non-linearityはrandom eventでチェック • prompt付近で0.05%程度のexcess • 原因: トリガーによるエレキのLatch解除時 • base lineが動揺 TDCのrelative bin width random eventのデータで補正
Decay rate fitting for RUN I pick off functionの外挿領域 decay rate prompt付近拡大 安定 安全のためpick-offの内挿領域を使用 Tstart=60ns を採用 • 統計エラーのみ • 内側: time spectrumの統計 • 外側: pick offの統計エラーを含む
Decay rate fitting for RUN II pick off function外挿領域 prompt付近拡大 安定 安全のためpick-offの内挿領域を使用 Tstart=60ns を採用 • 統計エラーのみ • 内側: time spectrumの統計 • 外側: pick offの関数の統計を含む
①3γ subtraction ピーク非対称性 3γの差引きの変化は、 主としてpick-off peakの左側に効く RUN I: pick-off peak RUN II: pick-off peak ピーク非対称性 pick-offの非対称性、 統計の範囲内で promptの非対称性と一致 normalization • 統計エラーはNormalizationにして0.33%、0.34% • 89ppm(91ppm)
514keV peak Pb X Data Geant4 response function に取り込む ②Detector efficiency of Ge • 85Sr 514keV γ線でMCを評価 • 基本的にGeant4の再現性はよい • 光電ピークに約1%のテールがでる • 電荷収集の不完全性 • response function • でparametrize • MCの再現性 ΔR=0.04% • その他の寄与 • SRT cut efficiency 統計0.09% • powder密度不均一性 (RUN IIのみ) • 10%の変化 0.24% • Monte Carlo統計0.07% 光電ピーク 光電ピーク+テール expでfit 33 ppm (28ppm)
角の部分で収集しにくい YAP PMT 光電面 対角方向 ③Detector efficiency for YAP • 85Sr 514keV γ線でMCを評価 • 光電ピーク、テールを引く • 光の吸収長~20cm Geant4 simulation Abs. length = 20cm data geant4 光収集効率を入れる • response function • でparameterize • MCの再現性 ΔR=2.0% (1.3%) 64ppm (19ppm) 光電ピーク 光電ピーク+コンプトン
④Other systematic source • TDC • KEK製 2GHz clock count type • 32μsの full rangeを0.5ns(1clock)の精度でcalibration less than 15 ppm • Zeeman effect • B=0.5±0.1 gauss (測定値) 5ppm • Stark effect • chargeの寄与: 3×10-9 C/g (測定値) 10-7ppm • dipoleの寄与: OH基表面密度、dipole moment 3ppm (4ppm) • Three-photon annihilation • pick-off、3γ崩壊の寄与 less than 91ppm (33ppm)
Systematic error summary (2乗和で計算)
測定結果 For RUN I For RUN II 2つのRUN 1.6σ でコンシステント (systematic errorの一部はcorrelate) Combined • total error 150ppm 全体:total error 内側:statistic error
O(α2) QED without O(α2) correction 東大 ミシガン大 東大 東大 • 崩壊率測定の歴史 (update) • 今回の測定 • 過去3つの実験とコンシステント • O(α2) QED計算値とコンシステント • Total error 150ppm • 前回の測定と比べて1.6倍向上
O(α2)補正項との比較 • 今回の測定は、 • 0.1σ from O(α2) QED • 1.7σ from without O(α2) correction • O(α2) QEDとコンシステント ちなみに、 過去4つの実験をcombineすると without O(α2) correctionとの差は2.6σ
まとめ • pick-offを直接補正する実験手法に基づき、 パウダー、エアロジェルを用いた2回の測定を行った 2つのRUNでコンシステントな測定値を得た • 実験精度は約150ppm、前回の測定と比べ1.6倍精度が向上した • 測定値はO(α2) QED計算値とコンシステント
T0のtimingで NIM signalが入る Detector Timing signal Logic Unit veto reset Base lineの動揺 Latch Trigger TDC TDC Stop signal
電場の2乗 • Stark Shift • 物質の電場による崩壊率の変化 • λ3γ ∝ Flux Factor ∝ |ψ(r=0)|2 • 摂動 ψ=ψ0+Eψ1+E2ψ2+… • Charge • 3×10-9 C/g (測定値) • クーロン電場 1×10-7ppm • 2.dipole moment (Si-OH) • p=1.7×10-18 esu・cm • 面密度 0.44/nm2 • dipole電場 3ppm SiO2 grain r+0.1nm300nm