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针对高探测效率 热中子探测器的模拟研究

针对高探测效率 热中子探测器的模拟研究. 学生 陆年华 指导老师 杨祎罡 清华大学工程物理系 粒子技术与辐射成像教育部重点实验室 lnh2005011660@gmail.com. 报告提纲. 背景介绍 探测器设计 基于 MCP 的热中子转换体 提升 MCP 的热中子吸收能力 模拟计算 中子在 MCP 中的衰减 带电粒子的出射 热中子探测效率 结论与展望. 背景介绍. 安全检查 & 无损检测 X 射线方法 技术成熟 应用广泛 中子方法 补充 X 射线方法 大部分重元素 某些轻元素 有机物质 爆炸物 区分同位素.

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针对高探测效率 热中子探测器的模拟研究

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  1. 针对高探测效率热中子探测器的模拟研究 学生 陆年华 指导老师 杨祎罡 清华大学工程物理系 粒子技术与辐射成像教育部重点实验室 lnh2005011660@gmail.com Tsinghua University

  2. 报告提纲 • 背景介绍 • 探测器设计 • 基于MCP的热中子转换体 • 提升MCP的热中子吸收能力 • 模拟计算 • 中子在MCP中的衰减 • 带电粒子的出射 • 热中子探测效率 • 结论与展望 Tsinghua University

  3. 背景介绍 • 安全检查&无损检测 • X射线方法 • 技术成熟 • 应用广泛 • 中子方法 • 补充X射线方法 • 大部分重元素 • 某些轻元素 • 有机物质 • 爆炸物 • 区分同位素 X-ray & Neutron Tsinghua University

  4. 气体探测器 灵敏体积大 信噪比较好 空间分辨率差 气体对带电粒子的阻止能力 固体探测器 结构紧凑 空间分辨率好 探测效率不高 中子的吸收 带电粒子的出射 微型脉冲强子源(CPHS) @Tsinghua University 参数实现 探测效率 >50% @ 25.3meV 热中子 空间分辨率 <100 μm 计数率 103counts/mm2/s 中子探测器 更好的探测系统? 基于微通道板中子转换体 Tsinghua University

  5. 微通道板 D 12~13 μm P 15~16 μm Tsinghua University

  6. MCP只是载体 结构的优异性 中子吸收核素 10B~3835b natGd~49700b MCP结合中子吸收核素 掺杂 镀膜 掺杂: 受MCP玻璃成分的限制 中子吸收核素的密度较小 需要大的厚度 带电粒子不容易进入通道 可行? 镀膜: 不受MCP玻璃成分的限制 中子吸收核素的密度很大 厚度可以较小 带电粒子容易进入通道 可行√ 中子转换实现 Tsinghua University

  7. 模拟研究 掺杂模型 镀膜模型 Tsinghua University

  8. 模拟研究 • 模拟 • P1:中子在微通道板中消失的概率 • MCNP5模拟 • 25.3meV Neutron • natGd2O3镀膜 • P2:电子从镀层中出射到通道中的概率 • MCNP5模拟 Tsinghua University

  9. P1 :中子在MCP中的衰减概率 • 25.3meV thermal neutron @ MCP • 镀膜 & 掺杂 • 中子俘获后放出的带电粒子的概率为Pne • 10B(n, α)7Li @ Pne=1 • natGd (n, γ) @ Pne=0.794 • 157Gd(n, γ)158Gd @ Pne=0.5887 Tsinghua University

  10. P2 :带电粒子的出射概率 • 中子俘获得到的带电粒子 • α、7Li+、内转换电子、俄歇电子 • 10B(n, α)7Li中子俘获反应产物能量及其射程 • 中子俘获反应形成连续的带电粒子源 Tsinghua University

  11. 热中子探测效率 10B掺杂MCP 157Gd掺杂MCP Tsinghua University

  12. 热中子探测效率 10B2O3镀膜 natGd2O3镀膜 Tsinghua University

  13. 镀膜研究 ALD: Atomic Layer Deposition 原子层沉积 • 优点: • 极好的保形性 • 大面积、均匀性的纯薄膜 • 简单精确地薄膜厚度控制 • 不需要控制反应物流量的均一性 • 薄膜生长可在低温下进行(室温到400oC) • 缺点: • 沉积速度慢 • 沉积材料的选择 Tsinghua University

  14. 镀膜研究 Tsinghua University

  15. 镀膜研究 孔深度7μm ,直径100nm 使用ALD镀膜 得到46nm厚的均匀薄膜 保形效果很好 Tsinghua University

  16. 初步镀膜效果 微通道板孔,是凹下去的 镀层natGd2O3 交界处 玻璃断面 Tsinghua University

  17. 初步镀膜效果 Tsinghua University

  18. 初步镀膜效果 Tsinghua University

  19. 镀膜结果 ~208.65nm Tsinghua University

  20. Thanks for your attention! Tsinghua University

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