1 / 10

機器利用講習会 超微細光学素子を作る　

機器利用講習会 超微細光学素子を作る　. Mar 14-15, '05. 担　当 フォトニクス研究開発支援センターのご案内 情報電子部　電子・光材料系　フォトニクス分野 兼フォトニクス研究開発支援センター長　主任研究員　森脇耕介 電子ビーム描画装置によるレジストパターン作製 情報電子部　電子・光材料系　フォトニクス分野　研究員　佐藤和郎 NLD プラズマエッチング装置によるパターン転写 情報電子部　電子・光材料系　フォトニクス分野　研究員　福田宏輝. フォトニクス研究開発支援センター 設置経緯と目的. 大阪府地域結集型共同研究事業（地域 COE 事業）

gur
Download Presentation

機器利用講習会 超微細光学素子を作る　

An Image/Link below is provided (as is) to download presentation Download Policy: Content on the Website is provided to you AS IS for your information and personal use and may not be sold / licensed / shared on other websites without getting consent from its author. Content is provided to you AS IS for your information and personal use only. Download presentation by click this link. While downloading, if for some reason you are not able to download a presentation, the publisher may have deleted the file from their server. During download, if you can't get a presentation, the file might be deleted by the publisher.

E N D

Presentation Transcript

  1. 機器利用講習会超微細光学素子を作る　 Mar 14-15, '05 担　当 • フォトニクス研究開発支援センターのご案内 情報電子部　電子・光材料系　フォトニクス分野兼フォトニクス研究開発支援センター長　主任研究員　森脇耕介 • 電子ビーム描画装置によるレジストパターン作製 情報電子部　電子・光材料系　フォトニクス分野　研究員　佐藤和郎 • NLDプラズマエッチング装置によるパターン転写 情報電子部　電子・光材料系　フォトニクス分野　研究員　福田宏輝

  2. フォトニクス研究開発支援センター設置経緯と目的フォトニクス研究開発支援センター設置経緯と目的 大阪府地域結集型共同研究事業（地域COE事業） 「テラ光情報基盤技術開発」H9.11〜H14.11 　　　阪大，阪府大，阪市大，産総研関西，府産技研，阪市工研，民間企業 微小光学素子と応用システムの研究 サブ波長構造の新奇な機能の光学素子開発（フェーズ I・II） TRI内に「先端光ファクトリ」コア研究室 サブ波長構造の試作・評価装置類を設置 研究事業に引き続き，企業支援事業（フェーズ III） 先端的加工装置の開放／成果・技術の普及

  3. 設置機器（加工） クリーンルーム（Class 10000） 電子ビーム蒸着装置 ULVAC 電子ビーム描画装置 日本電子 JBX-5000SI 両面マスクアライナ カールズース 多層膜スパッタ装置 理研社 NLDプラズマ　エッチング装置 ULVACNLD-800 レーザビーム描画装置 日本科学エンジニアリング

  4. 設置機器（形状評価） クリーンルーム（Class 10000） 薄膜光学定数測定装置 大塚科学 SPM顕微鏡 ヤマト科学 　走査型　電子顕微鏡 日本電子 白色光干渉式表面粗さ計 Zygo NewView5000 　光干渉式　膜厚測定装置 金属顕微鏡

  5. 主要設備一覧

  6. フォトニクスセンターのご利用 「機器使用」 使用料前納，利用者が操作 実質的な運用は「依頼加工」・「依頼試験」 「受託研究制度」 比較的長期，研究的性格 府産技研 技術相談（無料） フォトニクスセンター ご利用者 担当者 機器使用　　　 依頼加工（使用料） アイデア 形状 設計 担当者 受託研究

  7. 装置使用料一覧

  8. 加工の対応範囲 加工対象 フラット基板　　Si，SiO2 加工方法 高分子レジストのパターンニング プラズマドライエッチングによる転写 使用可能レジスト バイナリ・マルチレベル　レジスト 加工寸法 EB描画可能な基板寸法 [１inch□,1mm厚]×４，[２inch○,1mm厚]×２ 平面上 >100nm，描画時間1mm角xx時間 設計 持ち込み．シミュレーションは対応しない 加工精度について SEMでの観察・計測

  9. ご承諾いただきたいこと 「機器使用」 事前打ち合わせを念入りに（来所，メール，電話） 形状や材質によってはご使用いただけないこともあります． お客様が主体で実験を行って頂きます． 「依頼加工」もありますが，あくまで代行です． 「使用料」算定について 維持に必要な光熱費，消耗品費に充てる費用です． 装置によっては，厳密な時間算定が困難 マシンタイムではなく，機器の占有時間＋準備に要する作業時間 事前の作業などをお手伝いした場合，人件費相当分も算定いたします． 仕様どおりの納品・実験の成功への報酬・保証ではありません 使用予約について 予約はお早めに． 特に事前準備を依頼される場合はお早めに． 実験計画は寸法やレイアウトを詳細に． 不慮の故障は，代替日でご容赦を．

  10. お問い合わせ 技術相談 総合案内「技術支援センター」 TEL 0725-51-2525, FAX 0725-51-2509 24時間インターネット技術相談 所公式ＨＰ（http://tri-osaka.jp/）内，http://www.tri.pref.osaka.jp/tri24c.html 加工／試験／受託研究の具体的打ち合わせ フォトニクス研究開発支援センター 森脇 TEL: 0725-51-2611，mail: moriwaki@tri.pref.osaka.jp

More Related