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X 射线技术及应用 X-ray Analysis 康士秀 中国科技大学 22 系 2002. 7.

X 射线技术及应用 X-ray Analysis 康士秀 中国科技大学 22 系 2002. 7. 1. X 射线的产生和性质 1.1 导论 1.2 X 射线的产生 1.3 X 射线的性质 2. X 射线技术和应用 2.1 X 射线衍射( XRD ) 2.1 EXAFS , XANES 2.3 X 射线形貌( XRT ) 2.4 X 射线成像( XRI ) 2.5 X 射线小角散( XRS ) 2.6 X 射线光刻( XRL ) 2.7X 射线荧光( XRF ) 3. 结束语: X 射线实验系列化研究. 1. X 射线的产生和性质. 1.1 导论 1.2 X 射线的产生

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X 射线技术及应用 X-ray Analysis 康士秀 中国科技大学 22 系 2002. 7.

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Presentation Transcript


  1. X射线技术及应用X-ray Analysis康士秀中国科技大学 22系2002. 7.

  2. 1. X射线的产生和性质1.1 导论1.2 X射线的产生1.3 X射线的性质2. X射线技术和应用2.1 X射线衍射(XRD)2.1 EXAFS,XANES 2.3 X射线形貌(XRT)2.4 X射线成像(XRI)2.5 X射线小角散(XRS)2.6 X射线光刻(XRL)2.7X射线荧光(XRF)3.结束语:X射线实验系列化研究

  3. 1. X射线的产生和性质 1.1 导论 1.2 X射线的产生 1.3 X射线的性质

  4. 1.1 导论 1901伦琴 (Roentgen) 发现X射线(1895) 1914劳厄(Laue) 晶体的X射线衍射 1915布拉格父子 (Bragg) 分析晶体结构 1917 巴克拉 (Barkla) 发现元素的标识X射线 1924塞格巴恩 (Siegbahn ) X射线光谱学 1927康普顿(Compton等六人) 康普顿效应 1936德拜 (Debye) 化学 1946马勒 (Muller) 医学 1964霍奇金 (Hodgkin) 化学 1979柯马克和豪森菲尔德(Cormack/Hounsfield) 医学 1981 塞格巴恩(Siegbahn) 物理

  5. 1.2 X射线产生 • 固体靶源 • 同步辐射 • 等离子体源 • 同位素 • 核反应 • 其他

  6. 固体靶源 X射线管

  7. 转靶

  8. 焦点和辐射

  9. 特征谱 • 连续谱 I(E)=P0KZn(E0-E)/E0 谱(Kramer Law) I(E) - Intensity E – x-ray energy(Delta= 1eV) W/eV K - constant P0 – incident power (W) Z - target atom number n  1 E0 – incident electron energy(KeV) 连续谱 • 特征谱 I(E)=BN(Z)F(x)(E0-Ec)m X-lines : Ka,b and La,b etc. Ka : Ka1,Ka2 B – Constant F(x) – Target material Cons. Ec – Critical energy

  10. 同步辐射(合肥)

  11. 实验大厅(Hefei)

  12. Hefei 电子储存环

  13. 北京同步辐射实验室(BSRF)

  14. BSRF (Beijing)

  15. 同步辐射和谱分布

  16. SR辐射的能量和功率 (Larmor formula) (per e-, per run) v – Electron velocity c – Light velocity  - Magnet radius e – electron charge E – Electron energy m – electron mass In practical units, E - GeV,  - m, B – kG, Beam, current I – A 总辐射功率 (magnet length L) : Average

  17. 功率谱分布 (Integrated to all angle) 功率角分布 ( intgrated to all wavelength) - Second Bessel function , - Angle between photo and instant obbit plane - Critical wavelength and energy。 , 实用单位:

  18. Fe 等离子体源

  19. Z-压缩气体等离子体源

  20. 气体等离子体辐射的X射线谱

  21. 几种源的谱比较 Undulator Wiggler SR谱 固体靶源谱 Bent Magnet

  22. 1.3 X射线的性质 • X射线的吸收 • X射线的散射 • X射线光学 • X射线探测器

  23. X射线的吸收 I=I0exp(-t) • Line absorption coefficient l=log(I0/I)/t (cm-1) • Mass absorption coefficient m=/ (cm2/g) • Atom absorption coefficient a=/A/N (cm2/atom) • Mol absorption coefficient mol=(/)A (cm2/mol

  24. Photo absorption section  = A/N 重要!! 对混合物和化合物 m=∑wiI (wi – mass ratios) 对连续X射线 m=∑wii (i –different wavelength) m – photo electron + scattering + e+,e-

  25. /,  和 Z 的关系 - Bragg-Pierce 定律 / = KZ43 (cm-1) 吸收限和跳跃比

  26. X射线光学 反射光学 平晶 弯晶 多层膜 衍射光学 晶体 波带板 光栅 吸收 吸收片

  27. (1)X射线反射镜 折射率: • - 折射因子  - 衰减因子 反射率:

  28. (2)单晶X射线光学 柱面镜 材料: Si,Ge, Crystal 形状: 平晶,弯晶,球面 柱面,环面,超环面 应用: 单色器,成像

  29. (3)毛细管X射线透镜

  30. (4)X射线波带板

  31. X射线探测器 • 正比计数器** • NaI(Tl)闪烁探测器** • Si(Li)探测器** • Ge(Li)探测器 • Si PIN探测器** • Ge PIN探测器** • 多(单)丝室 • X射线CCD • 微多道板 • G-M计数管 • 电离室 • 胶片,荧光屏

  32. 2· X射线技术及应用 2.1 X射线衍射(XRD) 2.2 EXAFS,XANES 2.3 X射线形貌(XRT) 2.4 X射线成像(XRI) 2.5 X射线小角散(XRS) 2.6 X射线光刻(XRL) 2.7 X射线荧光(XRF)

  33. 2.1 X射线衍射(XRD)(1) Debye 法 =2dsin

  34. 同步辐射(SR)XRD装置 (BSRF)

  35. 纳米微晶Fe的X射线衍射

  36. (2)Laue 法

  37. 蛋白质的Laue衍射图

  38. 2.2 扩展的X射线吸收边(EXAFS) XANES:30 – 40eV 光电子多重散射 EXAFS:大于40eV 光电子/散射波干涉

  39. 2.3 X射线形貌(白光形貌和双晶形貌)

  40. X射线形貌图

  41. 2.4 X射线成像 • 层析术(吸收) • 显微术(吸收) • 全息术(衍射) • 减法造影(吸收) • 其它

  42. 扫描X射线显微镜装置

  43. X射线显微术实验站

  44. 显微图

  45. 造影装置

  46. 兔耳造影 (注入BaFBr)

  47. 2.5 X射线小角散射

  48. 2.6 X射线光刻 • X-ray 掩膜(mask) • X-ray抗蚀剂(resist) • X-ray光刻机(stepper) • LIGA技术

  49. SR X射线光刻装置(XRL)

  50. X射线抗蚀剂- 分类 光抗蚀剂 X射线抗蚀剂 电子束抗蚀剂 有机抗蚀剂 无机抗蚀剂 单组分 两组分 三组分 正性抗蚀剂 PMMA (poly(methyl methacrylate)) - 聚甲基丙烯酸甲酯, AZ1350J, RAY-PF 负性抗蚀剂 EPB, COP, SAR, RAY-PN

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