1 / 4

ФОТОАДИТИВНА ТЕХНОЛОГІЯ ВИГОТОВЛЕННЯ ДРУКОВАНИХ ПЛАТ

ФОТОАДИТИВНА ТЕХНОЛОГІЯ ВИГОТОВЛЕННЯ ДРУКОВАНИХ ПЛАТ. Схема дослідження металізації діелектриків за участю розроблених світлочутливих і каталітично активних компонентів з класу оксидів металів. Виготовлення діелектричного матеріалу.

ernie
Download Presentation

ФОТОАДИТИВНА ТЕХНОЛОГІЯ ВИГОТОВЛЕННЯ ДРУКОВАНИХ ПЛАТ

An Image/Link below is provided (as is) to download presentation Download Policy: Content on the Website is provided to you AS IS for your information and personal use and may not be sold / licensed / shared on other websites without getting consent from its author. Content is provided to you AS IS for your information and personal use only. Download presentation by click this link. While downloading, if for some reason you are not able to download a presentation, the publisher may have deleted the file from their server. During download, if you can't get a presentation, the file might be deleted by the publisher.

E N D

Presentation Transcript

  1. ФОТОАДИТИВНА ТЕХНОЛОГІЯ ВИГОТОВЛЕННЯ ДРУКОВАНИХ ПЛАТ

  2. Схема дослідження металізації діелектриків за участю розроблених світлочутливих і каталітично активних компонентів з класу оксидів металів Виготовлення діелектричного матеріалу Додавання активного оксиду до епоксид-каучукової композиції, нанесення її на текстоліт і створенняадгезивної основи з активним компонентомшляхом полімеризації. 1. Підготовка поверхні 2. Активування 3. Опромінювання 4. Проявлення 5. Нарощування шару міді (товстошарове хімічне міднення) Проведення процесу металізації Одержання характеристик металізованих діелектриків Візуальна оцінка картини металізації, визначенн висоти шару міді, величини адгезії, роздільної здатності та ін.

  3. Елементи та операції технологічної схеми виготовлення друкованих плат фотоадитивним методом Нові високоефективні світлочутливі компоненти Нові адгезиви для світлочутливих компонентів Склад розчину ТХМ Запропоновано: Режими операцій активування, опромінювання, проявлення і ТХМ Відпрацьовано: Погіршення механічних характеристик осадженої міді при тривалій експлуатації розчину ТХМ Встановлено: Необхідність періодичного коригування розчину ТХМ за всіма компонентами Можливість каталітичного виділення міді з відпрацьованих розчинів ТХМ Показано: Методика коригування розчину ТХМ Методика виділення міді з відпрацьованого розчину ТХМ Розроблено:

  4. Об’єкти дослідження 1. Продукти імплантації поодиноких іонів Ag+, Cu+, Cu2+, Bi3+ в поверхню CdS та наноструктурні композити Ag2S/CdS, Cu2S/CdS, CuS/CdS і Bi2S3/CdS. 2. Гетероструктури напівпровідників (CdS, TiO2) з ціаніновими барвниками та полімером. 3. Системи оксидів металів, одержання цих речовин, каталітичні і фотокаталітичні реакції за їх участю та можливості практичного застосування. Методи дослідження Визначення фотокаталітичної та каталітичної активності, електропровідності, магнітної сприйнятливості, питомої поверхні, рентгенофазовий аналіз, спектрофотометрія, спектроскопія дифузного відбивання, атомна абсорбційна спектроскопія.

More Related