1. 真空晨会报告 2009-06-13

2. 目前真空系统状态 • 内真空：2台主分子泵+3CP； • 外真空：2台分子泵； • 低杂波：1套分子泵机组； • 目前烘烤： • 感应烘烤：0 • 内衬烘烤：20 A • 管道烘烤：100 V

3. 主要工作 • He GDC • 05:20 - 07:00 • 0.6 Pa，2 A

4. 装置各处真空度演变

5. 内真空 质谱