真空晨会报告. 2009-06-26. 主要工作. He GDC 04:00-05:30 2 A , 0.5 Pa. 目前真空系统状态. 内真空: 2 台主分子泵 +3CP ; 外真空: 2 台分子泵; 低杂波: 1 套分子泵机组; 目前烘烤: 感应烘烤: 0 内衬烘烤: 10 A 管道烘烤: 100 V. 装置各处真空度演变. 内真空 质谱.
真空晨会报告 2009-06-26
主要工作 • He GDC • 04:00-05:30 • 2 A,0.5 Pa
目前真空系统状态 • 内真空:2台主分子泵+3CP; • 外真空:2台分子泵; • 低杂波:1套分子泵机组; • 目前烘烤: • 感应烘烤:0 • 内衬烘烤:10 A • 管道烘烤:100 V
装置各处真空度演变
内真空 质谱