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サンテクノ技術セミナー

サンテクノ技術セミナー. 高周波技術入門 講座テキスト その2 平成18年6月2日. 2.高周波技術の基礎. 周波数帯の区分. 2.高周波技術の基礎. マイクロ波のバンド名 単位の倍数記号. 2.高周波技術の基礎. 各周波数帯の用途. 2.高周波技術の基礎. 周波数と周期の関係 周期 T[s] = 1 / 周波数 [Hz]  例) 100MHz の周期は 0.01μs 周波数と波長の関係 波長 λ[m] = 光速/周波数         ≒ 3 × 10 8 / 周波数 [Hz]  例) 300MHz の 1/2λ は 0.5m.

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Presentation Transcript


  1. サンテクノ技術セミナー 高周波技術入門 講座テキスト その2 平成18年6月2日

  2. 2.高周波技術の基礎 • 周波数帯の区分

  3. 2.高周波技術の基礎 • マイクロ波のバンド名 • 単位の倍数記号

  4. 2.高周波技術の基礎 • 各周波数帯の用途

  5. 2.高周波技術の基礎 • 周波数と周期の関係 周期T[s] = 1 / 周波数[Hz]  例)100MHzの周期は0.01μs • 周波数と波長の関係 波長λ[m] = 光速/周波数         ≒ 3 × 10 8/ 周波数[Hz]  例)300MHzの1/2λは0.5m

  6. 2.高周波技術の基礎 • デシベル[dB](デービーとも読まれる) • dBは、信号の比を常用対数で示したもの    電力差[dB]=10log(P/P0)    電圧差[dB]=20log(E/E0)    電流差[dB]=20log(I/I0)

  7. 2.高周波技術の基礎 • 絶対値dB • 受信感度や送信電力の表現にはdBmやdBμVなど絶対値dBの単位が使われる • dBm:電力1mWを基準としたdB表現(0dBm=1mW) • dBW:電力1Wを基準としたdB表現(0dBW=1W) • dBμV:電圧1μVを基準としたdB表現(0dBμV=1μV) • dBi:等方性アンテナの利得を基準としたdB表現

  8. 2.高周波技術の基礎 • オームの法則 電流I[A] = V[V]/R[Ω]又はV = IR  例)50Ωの抵抗に100V印加時の電流は2A • 電力 電力P[W] = V [V] ×I [A] = I2R= V2/R  例)100V、12Aの機器の消費電力は1200W

  9. Z jX 絶対値 位相角 R 2.高周波技術の基礎 • インピーダンスZ 交流における抵抗で実数部R(resistance)と虚数部X(reactance)からなる Z[Ω] = R + jX なお、コイルのリアクタンスはjX=jωL、 コンデンサのリアクタンスはjX=1/jωC • アドミタンスY アドミタンスはインピーダンスの逆数で実数部G(conductance)と虚数部B(susceptance)からなる Y [S] = G + jB なお、抵抗のコンダクタンスはG=1/R、コイルのサセプタンスは jB=1/jωL、コンデンサのサセプタンスはjB=jωC

  10. 2.高周波技術の基礎 • 位相 x(t) = sin(ωt) を中心として、z(t) = sin(ωt+θ) は 時間的に先行し、y(t) = sin(ωt-θ) は遅れている。 互いの位相差はθ

  11. 2.高周波技術の基礎 • 特性インピーダンス(Z0) • 伝送路の入口からみると、ある一定の入力インピーダンスを持っているように見えるが、これを特性インピーダンスと言う。 • 同軸ケーブルは50Ω系と75Ω系が広く使われている。

  12. 2.高周波技術の基礎 • 反射 特性インピーダンスZ0と負荷インピーダンスRLが合っていないと反射が起こる |反射係数Γ| = 反射波振幅Vr/進行波振幅Vs           = |( Z0- RL)/( Z0+ RL)| • 定在波 進行波と反射波の干渉により線路に発生するうねり 電圧定在波比VSWR= Vmax/Vmin           = (1+ |Γ| )/(1- |Γ|)

  13. 2.高周波技術の基礎 • 反射の様子 Γ=1 Γ=0.5 Γ=0.1 (「Radio Frequency Technology」のHPから引用) 進行波    反射波

  14. 2.高周波技術の基礎 • スミスチャート スミスチャートは、インピーダンスと反射係数との関係を図表化したものでインピーダンスマッチングが簡単にできる • スミスチャートの種類 • インピーダンスチャート • アドミタンスチャート • イミッタンスチャート  (上記2つのチャートが描かれたもの、次頁図) なお、次頁以降のスミスチャートは 「Radio Frequency Technology」のHPから引用

  15. 2.高周波技術の基礎

  16. 2.高周波技術の基礎 • インピーダンスチャートの目盛り • 横軸目盛:正規化純抵抗 • 円周目盛:正規化リアクタンス         及び反射係数の位相 • 半径の長さ:反射係数の絶対値 • プロット例(50Ωで正規化) • A:50+j50Ω • B:f=159MHzにおいてR=25Ω    とL=25nHの直列回路 • C:f=159MHzにおいてR=100Ω    とC=10pFの直列回路

  17. 2.高周波技術の基礎 • アドミタンスチャートの目盛り • 横軸目盛:正規化コンダクタンス • 円周目盛:正規化サセプタンス         及び反射係数の位相 • 半径の長さ:反射係数の絶対値 • プロット例  (50Ω(即ちY=20mS)で正規化) • A:10+j10mS • B:f=159MHzにおいてR=50Ω    とL=50nHの並列回路

  18. 2.高周波技術の基礎 • イミッタンスチャートによる直列回路→並列回路 • B:f=159MHzにおいてR=50Ω    とC=4pFの直列回路 • ⇒z=1-j5 ⇒(図を読む) ⇒y=0.04+j0.19 • ⇒Rp=1250ΩとCp=3.8pFの並列回路 • (参考)   式で変換すると以下の様になる • Rp = Rs(1+Q2) • Cp = CsQ2/(1+Q2) • Lp = Ls(1+Q2) / Q2    ここにQ = ωLs/Rs = ωCsRs

  19. 2.高周波技術の基礎 • スミスチャートによる反射係数 • 位相角度目盛:反射係数の位相 • 半径の長さ:反射係数の絶対値      0は反射なし、1は全反射 • プロット例(50Ωで正規化) • 50+j50Ωでの   反射係数は0.45∠63°

  20. 2.高周波技術の基礎 • L,C,Rによるインピーダンスの移動

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