260 likes | 664 Views
電子工学研究室 の紹介. Introduction to Electronic Engineering Laboratory, OPUCT. メカトロニクスコース 前田篤志. Mechatronics Course Atsushi MAEDA. 6コース制 ( 17-22 年度). メカトロニクス. 電子情報. 物質化学. 環境都市システム. システムデザイン. 機械システム. 【課題】機械系3コースのカリキュラムがほぼ同一 【 対応 】 ・メカトロニクス,システムデザイン,電子情報を2コースに再編
E N D
電子工学研究室 の紹介 Introduction to Electronic Engineering Laboratory, OPUCT メカトロニクスコース 前田篤志 Mechatronics Course Atsushi MAEDA
6コース制 (17-22年度) メカトロニクス 電子情報 物質化学 環境都市システム システムデザイン 機械システム 【課題】機械系3コースのカリキュラムがほぼ同一 【対応】・メカトロニクス,システムデザイン,電子情報を2コースに再編 ・機械システム,物質化学(改称),環境都市システム(改称)は維持
再編コンセプト <目指すべき姿> メカトロ 電子情報 メカトロニクス 機械 電子情報 システムデザイン 機械システム × 各コース独自の技術者を輩出可能! <陥ってはならない姿> 機械 メ カ ト ロ 電子情報 メカトロニクスコースの独自性は僅か! 特徴ある技術者の輩出は不可能!
新メカトロニクスコース メカトロニクス 機械システム 電子情報 機械工学(メカニクス)と電子工学(エレクトロニクス)を融合 『FAシステム,各種ロボット等を コンピュータ技術を駆使して電子制御し その高性能化や自動化をはかる』
スタッフ 准教授 金田忠裕 (博士(工学):ロボット工学) メカトロニクス 教 授 須﨑昌已 (博士(工学):電子工学) 准教授 中谷敬子 (博士(工学):材料工学) 電子情報 システムデザイン 教 授 葭谷安正 (博士(工学):システム工学) 准教授 土井智晴 (博士(工学):制御工学) システムデザイン メカトロニクス 教 授 前田篤志 (博士(理学):電子物理) 講 師 上村匡敬 (博士(工学):流体工学) 電子情報 システムデザイン 准教授 藪 厚生 (博士(工学):ロボット工学) 講 師 和田 健 (博士(工学):システム工学) メカトロニクス システムデザイン
カリキュラム 機械系科目 電気電子系科目 融合科目 実験実習科目
電子工学研究室 構造解析技術 電子機器 電子機器 電磁気 シミュレーション X線回折 電子デバイス 電子デバイス 走査型電子顕微鏡 原子間力顕微鏡 シミュレーション技術 スパッタリング フォトリソグラフィ 真空蒸着 光触媒リソグラフィ 自己組織化 微細加工技術 薄膜形成技術
電子工学研究室 構造解析技術 電子機器 電磁気 シミュレーション X線回折 電子デバイス 走査型電子顕微鏡 原子間力顕微鏡 シミュレーション技術 スパッタリング フォトリソグラフィ 真空蒸着 光触媒リソグラフィ 自己組織化 微細加工技術 薄膜形成技術
自己組織化 Self-Assembled Monolayer: SAM 自己組織化単分子膜 有機太陽電池 有機薄膜トランジスタ
自己組織化プロセス STEP 1: 水素終端化 STEP 2: 自己組織化
水滴接触角 接線 頂点 α:水滴接触角 h θ 2r - a = q = 1 2 2 tan ( h / r ) 未処理 47.6° UV光照射 0° SAM形成 91.6°
トピック ‘Dynamic Contact Angle Analysis on Self-Assembled Monolayer’ T. Murakami, K. Hirao, and A. Maeda 2011 International Conference on Molecular Electronics and Bioelectronics 摩擦:大 摩擦:小 有機分子 水滴 Water Drop Angle (deg.) Si基板 Rotation Angle (deg.)
電子工学研究室 構造解析技術 電子機器 電磁気 シミュレーション X線回折 電子デバイス 走査型電子顕微鏡 原子間力顕微鏡 シミュレーション技術 スパッタリング フォトリソグラフィ 真空蒸着 光触媒リソグラフィ 自己組織化 微細加工技術 薄膜形成技術
光触媒 伝導帯 アナターゼ型 TiO2 価電子帯 アナターゼ型 TiO2 e- 光励起 h+ H2O ヒドロキシル ラジカル (強酸化能) ・OH
光触媒リソグラフィプロセス 成膜 露光 現像 ・OH ・OH ・OH ・OH エッチング レジスト除去 銅パターン形成
特 長 フッ化水素 六フッ化硫黄
トピック ‘Development of Lithography Process using Photocatalytic Nano-Particles’ E. Takemoto and A. Maeda 2010 International Chemical Congress of Pacific Basin Societies ネガ型レジスト Line & Space: 10 mm Box: 10 mm × 10 mm ポジ型レジスト Line & Space: 5 mm Box: 5mm × 5mm
電子工学研究室 構造解析技術 電子機器 電磁気 シミュレーション X線回折 電子デバイス 走査型電子顕微鏡 原子間力顕微鏡 シミュレーション技術 スパッタリング フォトリソグラフィ 真空蒸着 光触媒リソグラフィ 自己組織化 微細加工技術 薄膜形成技術
電磁気学 学習意欲向上 概念理解促進
三次元可視化シミュレーション I H 定常磁界 磁界 力 磁界 P r2 r1 力 電流 -Qm +Qm I in 電流による磁界 dH 電流 r dl i2 i1 導体にかかる力
シミュレーション結果 合成磁界(二次元) 定常磁界 電流による磁界 合成磁界(三次元)
トピック セミコンジャパン展示風景 ‘3D Simulation Software for Visualization of Electromagnetic Phenomena’ K. Fujiwara, K. Shinnaga, S. Fukushima, and A. Maeda 2010 International Conference on Society and Information Technologies 「学習意欲向上を目的とした電磁気シミュレーションソフトウェア」 濵田将季,村上拓也,前田篤志 第58回応用物理学関係連合講演会(2011年) 「3次元可視化シミュレーションソフトウェア -フレミング左手の法則-」 新永夏代,藤原賢二,福嶋茂信,前田篤志 第57回応用物理学関係連合講演会(2010年)
電子工学研究室 構造解析技術 電子機器 電磁気 シミュレーション X線回折 電子デバイス 走査型電子顕微鏡 原子間力顕微鏡 シミュレーション技術 スパッタリング フォトリソグラフィ 真空蒸着 光触媒リソグラフィ 自己組織化 微細加工技術 薄膜形成技術