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Physics and Technology of Modern Semiconductor Devices

Physics and Technology of Modern Semiconductor Devices. Chapter II : 热平衡时的能带和载流子浓度. 半导体材料. 绝缘体 : 电导率很低,约介于 10 -18 S/cm ~ 10 - 8 S/cm, 如熔融石英及玻璃; 导 体:电导率较高,介于 10 4 S/cm ~ 10 6 S/cm ,如铝、银等金属。 半导体:电导率则介于绝缘体及导体之间。. 半导体材料. 硅的优势:. 硅器件在室温下有较佳的特性; 高品质的硅氧化层可由热生长的方式产生,成本低;

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Presentation Transcript


  1. Physics and Technology of Modern Semiconductor Devices Chapter II : 热平衡时的能带和载流子浓度

  2. 半导体材料 绝缘体:电导率很低,约介于10 -18S/cm~10 - 8S/cm,如熔融石英及玻璃; 导 体:电导率较高,介于10 4S/cm~ 106S/cm,如铝、银等金属。 半导体:电导率则介于绝缘体及导体之间。

  3. 半导体材料

  4. 硅的优势: 硅器件在室温下有较佳的特性; 高品质的硅氧化层可由热生长的方式产生,成本低; 硅含量占地表的25%,仅次于氧,储量丰富。

  5. 化合物(compound)半导体材料 类别:二元化合物半导体:由两种元素组成。 三元化合物半导体:由三种元素组成。 多元化合物半导体:由三种及以上元素组成。 二元化合物半导体: IV-IV族元素化合物半导体:炭化硅(SiC);􀁺 III-V族元素化合物半导体:砷化镓(GaAs)、磷化镓(GaP)、磷化铟(InAs)等; II-VI族元素化合物半导体:氧化锌(ZnO)、硫化锌(ZnS)、碲化镉(CdTe)等; IV-VI族元素化合物半导体:硫化铅(PbS)、硒化铅(PbSe)、碲化铅(PbTe)

  6. 三元化合物与多元化合物半导体: 由III族元素铝(Al)、镓(Ga)及V族元素砷(As)所组成的合金半导体AlxGax-1As即是一种三元化合物半导体,具有AxB1-xCyD1-y形式的四元化合物半导体锗可由许多二元及三元化合物半导体组成。例如,合金半导体GaxIn1-xAsyp1-y是由磷化镓(GaP)、磷化铟(InAs)及砷化镓(GaAs)所组成。 化合物半导体的优势与不足:许多化合物半导体具有与硅不同的电和光电特性。这些半导体,特别是砷化镓(GaAs),主要用于高速光电器件。与元素半导体相比,制作单晶体形式的化合物半导体通常需要较复杂的程序。化合物半导体的技术不如硅半导体技术成熟。

  7. 化合物(compound)半导体材料

  8. 晶体结构 半导体的晶格结构:􀁺 半导体的结构特点:半导体材料是单晶体,它在三维空间是周期性地排列着的。即使当原子热振动时,仍以其中心位置作微量振动。􀁺晶格(lattice):晶体中原子的周期性排列称为晶格。􀁺单胞(unit cell):周期性排列的最小单元,用来代表整个晶格,将此单胞向晶体的四面八方连续延伸,即可产生整个晶格。

  9. 单胞及其表示:􀁺右图是一个简单的三维空间单胞。􀁺晶格常数:单胞与晶格的关系可用三个向量a、b及c来表示,它们彼此之间不需要正交,而且在长度上不一定相同,称为晶格参数。单胞及其表示:􀁺右图是一个简单的三维空间单胞。􀁺晶格常数:单胞与晶格的关系可用三个向量a、b及c来表示,它们彼此之间不需要正交,而且在长度上不一定相同,称为晶格参数。 每个三维空间晶体中的等效格点可用下面的向量组表示: R=ma + nb+ pc 其中m、n及p是整数。

  10. 基本晶体结构 几种常见基本晶胞: 简单立方晶格(simple cubic,sc):在立方晶格的每一个角落,都有一个原子,且每个原子都有六个等距的邻近原子。长度a称为晶格常数。在周期表中只有钚(polonium)属于简单立方晶格。 体心立方晶格(body-centered,bcc):除了角落的八个原子外,在晶体中心还有一个原子。在体心立方晶格中,每一个原子有八个最邻近原子。钠(sodium)及钨(tungsten)属于体心立方结构。

  11. 面心立方晶格(face-centered cubic, fcc): 除了八个角落的原子外,另外还有六个原子在六个面的中心。在此结构中,每个原子有12个最邻近原子。很多元素具有面心立方结构,包括铝(aluminum)、铜(copper)、金(gold)及铂(platinum)。􀁺 密堆积六方结构:

  12. 金刚石晶格结构:此结构属于面心立方晶体家族,可被视为两个相互套构的面心立方副晶格,此两个副晶格偏移的距离为立方体体对角线的1/4(a的长度)。此两个副晶格中的两组原子虽然在化学结构上相同,但以晶格观点看却不同。硅和锗都是金刚石晶格结构。􀁺金刚石晶格结构:此结构属于面心立方晶体家族,可被视为两个相互套构的面心立方副晶格,此两个副晶格偏移的距离为立方体体对角线的1/4(a的长度)。此两个副晶格中的两组原子虽然在化学结构上相同,但以晶格观点看却不同。硅和锗都是金刚石晶格结构。􀁺 闪锌矿结构(zinc-blende lattice):大部分的III-V族化合物半导体(如GaAs)具有闪锌矿结构,它与金刚石晶格的结构类似,只是两个相互套构的面心立方副晶格中的组成原子不同,其中一个副晶格为III族原子(Ga),另一个副晶格为V族原子(As)。

  13. 例1: 假使将圆球放入一体心立方晶格中,并使中心圆球与立方体八个角落的圆球紧密接触,试计算出这些圆球占此体心立方单胞的空间比率。 解:每单胞中的圆球(原子)数为=(1/8)×8(角落)+1(中心)=2; 相邻两原子距离[沿图中立方体的对角线]=a; 每个圆球半径=a;每个圆球体积=; 单胞中所能填的最大空间比率=圆球数×每个圆球体积/每个单胞总体积= 因此整个体心立方单胞有68%为圆球所占据,32%的体积是空的。

  14. 例2 硅在300K时的晶格常数为5.43Å。 请计算出每立方厘米体积中的硅原子数及常温下的硅原子密度。

  15. 解:每个单胞中有8个原子,因此每立方厘米体积中的硅原子数为解:每个单胞中有8个原子,因此每立方厘米体积中的硅原子数为 密度=每立方厘米中的原子数×每摩尔原子质量/阿伏伽德罗常数

  16. 由于不同平面的原子空间不同。因此沿着不同平面的晶体特性并不同,且电特性及其他器件特性与晶体方向有着重要的关联。由于不同平面的原子空间不同。因此沿着不同平面的晶体特性并不同,且电特性及其他器件特性与晶体方向有着重要的关联。 密勒指数(Miller indices):是界定一晶体中不同平面的简单方法。这些指数可由下列步骤确定:􀂾 找出平面在三坐标轴上的截距值(以晶格常数为计量单位);􀂾 取这三个截距值的倒数,并将其化简成最简单整数比;􀂾 将此结果以“(hkl)”表示,即为单一平面的密勒指数。

  17. 关于密勒指数的一些其他规定:􀁺 ( ):代表在x轴上截距为负的平面,如􀁺{hkl}:代表相对称的平面群,如在立方对称平面中,可用{100}表示(100),(010),(001),,,六个平面。􀁺[hkl]:代表一晶体的方向,如[100]方向定义为垂直于(100)平面的方向,即表示x轴方向。而[111]则表示垂直于(111)平面的方向。􀁺 <hkl>:代表等效方向的所有方向组,如<100>代表[100]、[010]、[001]、、、六个等效方向的族群。

  18. 例如图所示平面在沿着三个坐标轴的方向有三个截距a、3a、2a,其的倒数分别为1/a、1/3a和1/2a。它们的最简单整数比为6:2:3(每个分数乘6a所得)。因此这个平面可以表示为(623)平面。例如图所示平面在沿着三个坐标轴的方向有三个截距a、3a、2a,其的倒数分别为1/a、1/3a和1/2a。它们的最简单整数比为6:2:3(每个分数乘6a所得)。因此这个平面可以表示为(623)平面。

  19. 半导体的共价键结合 在金刚石晶格中,每个原子被四个最邻近的原子所包围。右下图是其二维空间结构简图。每个原子在外围轨道有四个电子,分别与周围4个原子共用4对电子。这种共用电子对的结构称为共价键(covalent bonding)。每个电子对组成一个共价键

  20. 半导体的共价键结合 共价键产生在两个相同元素的原子间,或具有相似外层电子结构的不同元素原子之间,每个原子核拥有每个电子的时间相同。然而这些电子大部分的时间是存在两个原子核间。原子核对电子的吸引力使得两个原子结合在一起。

  21. 半导体的共价键结合 砷化镓为四面体闪锌矿结构,其主要结合也是共价键,但在砷化镓中存在微量离子键成分,即Ga+离子与其四个邻近As-离子或As-离子与其四个邻近Ga+离子间的静电吸引力。以电子观来看,这表示每对共价键电子存在于As原子的时间比在Ga原子中稍长。

  22. 载流子: 低温时,电子分别被束缚在四面体晶格中,因此无法作电的传导。但在高温时,热振动可以打断共价键。当一些键被打断时,所产生的自由电子可以参与电的传导。而一个自由电子产生时,会在原处产生一个空缺。此空缺可由邻近的一个电子填满,从而产生空缺位置的移动,并可被看作与电子运动方向相反的正电荷,称为空穴(hole)。半导体中可移动的电子与空穴统称为载流子。

  23. 能级与能带 孤立原子的能级孤立原子而言,电子的能级是分离的。 例如,孤立氢原子的玻尔能级模型: 其中m0是自由电子的质量,q是电荷量,ε0是真空介电常数(free-space permittivity),h是普朗克常数(Plank constant),n是正整数,称为主量子数

  24. 能级分裂成能带 首先考虑两个相同原子,当彼此距离很远时,对同一个主量子数(如n=1)而言,其能级为双重简并(degenerate),亦即两个原子具有相同的能量。 但当两个原子接近时,由于两原子间的交互作用,会使得双重简并能级一分为二。如有N个原子形成一个固体,不同原子外层电子的轨道重叠且交互作用。将造成能级的移动。当N很大时,将形成一连续的能带。此N个能级可延伸几个电子伏特,视晶体内原子的间距而定。右图描述此效应,其中a参数代表平衡状态下晶体原子的间距。

  25. 图中是N个孤立硅原子形成一硅晶体的能带形成图。当原子与原子间的距离缩短时,N个硅原子的3s及3p副外层将彼此交互作用及重叠。图中是N个孤立硅原子形成一硅晶体的能带形成图。当原子与原子间的距离缩短时,N个硅原子的3s及3p副外层将彼此交互作用及重叠。 在平衡状态下的原子间距时,能带将再度分裂,使得每个原子在较低能带有4个量子态,而在较高能带也有4个量子态。

  26. 在绝对零度时,电子占据最低能态,因此在较低能带(即价带)的所有能态将被电子填满,而在较高能带(即导带)的所有能态将没有电子,导带的底部称为EC,价带的顶部称为EV。在绝对零度时,电子占据最低能态,因此在较低能带(即价带)的所有能态将被电子填满,而在较高能带(即导带)的所有能态将没有电子,导带的底部称为EC,价带的顶部称为EV。 导带底部与价带顶部间的禁止能量间隔(EC-EV)称为禁带宽度Eg,如图左边所示。它表示将半导体价带中的电子断键,变成自由电子并送到导带,而在价带中留下一个空穴所需的能量。

  27. 有效质量 自由电子的动能可表示为: 其中p为动量,m0为自由电子质量。 由此可得: 画出E相对p的图,将得到如图所示的抛物线图。

  28. 在半导体晶体中,导带中的电子类似自由电子,可在晶体中自由移动。但因为原子核的周期性电势,前式不再适合。但可将自由电子质量换成有效质量mn(下标符号n表示电子),仍可得到相同形式的关系,即在半导体晶体中,导带中的电子类似自由电子,可在晶体中自由移动。但因为原子核的周期性电势,前式不再适合。但可将自由电子质量换成有效质量mn(下标符号n表示电子),仍可得到相同形式的关系,即 电子有效质量视半导体的特性而定。其大小同样可通过该材料的能量-动量曲线所表征的能量与动量关系式,由E与对p的二次微分可以得到:

  29. 可见,抛物线的曲率越小,对应的二次微分越大,则有效质量越小。空穴也可以用类似的方法表示(其中有效质量为mp,下标符合p表示空穴)。可见,抛物线的曲率越小,对应的二次微分越大,则有效质量越小。空穴也可以用类似的方法表示(其中有效质量为mp,下标符合p表示空穴)。 右图为一特殊半导体的简单能量与动量关系式,其中导带中有效质量mn=0.25m0 (上抛物线),而价带中空穴有效质量mp=m0(下抛物线)。可以看出,电子能量可由上半部抛物线得出,而空穴能量可由下半部抛物线得出。两抛物线在p=0时的间距为禁带宽度Eg。

  30. 直接带隙和间接带隙半导体 直接带隙半导体: 砷化镓的动量-能量关系曲线,其价带顶部与导带最低处发生在相同动量处(p=0)。因此,当电子从价带转换到导带时,不需要动量转换。这类半导体称为直接带隙半导体。 砷化镓有一非常窄的导带抛物线,其电子的有效质量仅为0.063m0。

  31. 间接带隙半导体: 对硅而言,其动量-能量曲线中价带顶部发生在p=0时,但导带的最低处则发生在沿[100]方向的p=pC。因此,当电子从硅的价带顶部转换到导带最低点时,不仅需要能量转换(≥Eg),也需要动量转换(≥pC)。这类半导体称为间接带隙半导体。硅有一较宽的导带抛物线,其电子的有效质量为0.19m0。 直接与间接禁带结构的差异在发光二极管与激光等应用中相当重要。这些应用需要直接禁带半导体产生有效光子。

  32. 金属、半导体和绝缘体的能带及传导特性 金属、半导体及绝缘体的电导率存在巨大差异,这种差异可用它们的能带来作定性解释。人们发现,电子在最高能带或最高两能带的占有率决定此固体的导电性。

  33. 金属: 金属导体的电阻很低,其导带不是部分填满[如铜(Cu)]就是与价带重叠[如锌(Zn)或铅(Pb)],所以根本没有禁带存在,如图所示。

  34. 因此,部分填满的导带最高处的电子或价带顶部的电子在获得动能时(如从一外加电场),可移动到下一个较高能级。因此,部分填满的导带最高处的电子或价带顶部的电子在获得动能时(如从一外加电场),可移动到下一个较高能级。 对金属而言,因为接近占满电子的能态处尚有许多未被占据的能态,因此只要有一个小小的外加电场,电子就可自由移动,故金属导体可以轻易传导电流。

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