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Micro-Usinage sur SiC

Micro-Usinage sur SiC. Introduction. Objectifs du stage Travaux préliminaires Les étapes du process L’étape d’insolation Exemple d’interprétation des mesures d’épaisseur. La métallisation La gravure sur SiC Conclusion. Objectifs. Travaux préliminaires. Elaboration des masques

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Presentation Transcript

  1. Micro-Usinage sur SiC

  2. Introduction • Objectifs du stage • Travaux préliminaires • Les étapes du process • L’étape d’insolation • Exemple d’interprétation des mesures d’épaisseur. • La métallisation • La gravure sur SiC • Conclusion

  3. Objectifs

  4. Travaux préliminaires • Elaboration des masques • Choix du métal : NiCr

  5. Quelques étapes du process

  6. L’étape d’insolation

  7. Interprétation des mesures d’épaisseur (1/2)

  8. Interprétation des mesures d’épaisseur (2/2)

  9. Le plasma La source RF. Métallisation / Gravure : Définitions

  10. La métallisation

  11. La gravure sèche (par plasma) • Pourquoi la gravure sèche? • Difficultés posés.

  12. Principe d’une gravure sèche

  13. Mécanismes de la gravure sèche

  14. Gravure Ionique Réactive (RIE)

  15. Gravure ECR (celle utilisée) : • Taux d’ionisation plus élevé. • Travail sous pression plus basse. • Création plasma et accélération des ions séparées.

  16. Bâti de gravure ECR

  17. CONCLUSION

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