离子液体中金属铝的电沉积
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离子液体中金属铝的电沉积 及其 AAO 模板的制备与应用 PowerPoint PPT Presentation


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离子液体中金属铝的电沉积 及其 AAO 模板的制备与应用. 指导老师 : 王宏智 学生 : 张晓振. 提纲. 课题背景与意义 国内外发展状况 研究内容与方法 实验计划. 课题背景与意义. 课题背景与意义. 有机熔盐体系. 国内外发展状况. 2011 年,华东理工大学李冰采用脉冲电流法在 [EMIC]Cl-AlCl 3 电沉积铝。. SEM micrographs of deposits on Cu substrate of an AlCl 3 -EMIC(2:1 molar ratio) at 60 ℃ for 30 min;

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离子液体中金属铝的电沉积 及其 AAO 模板的制备与应用

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Presentation Transcript


Aao

离子液体中金属铝的电沉积及其AAO模板的制备与应用

指导老师:王宏智

学生:张晓振


Aao

提纲

  • 课题背景与意义

  • 国内外发展状况

  • 研究内容与方法

  • 实验计划


Aao

课题背景与意义


Aao

课题背景与意义


Aao

有机熔盐体系


Aao

国内外发展状况

  • 2011年,华东理工大学李冰采用脉冲电流法在[EMIC]Cl-AlCl3电沉积铝。

SEM micrographs of deposits on Cu substrate of an AlCl3-EMIC(2:1 molar ratio) at 60℃ for 30min;

(a)im=20mA/cm2; (b)im=5mA/cm2; (c) im=5mA/cm2;

ton=9ms; toff=1ms.


Aao

国内外发展状况

2012年3月,南京航空航天大学裴玉汝在离子液体[BMIM]Cl-AlCl3中分别以不锈钢和铜为基底,制备出镀铝层。

不锈钢基底镀铝层SEM

放大1000倍

放大5000倍

放大10000倍


Aao

国内外发展状况

  • 工艺条件:恒压1.4V,电镀时间40min,

    温度56℃,电流密度18-20mA/cm2

  • 镀铝层

    (i)铝镀层表面平整且致密均匀

    (ii)通过电镀时间、温度、电流密度等工艺参数调节铝镀层


Aao

国内外发展状况

  • 铜基底镀铝层SEM

放大10000倍

放大1000倍

放大5000倍


Aao

国内外发展状况

工艺条件:恒压1.4V,电镀时间45min

温度55℃,电流密度18-20mA/cm2

镀铝层

(i)表面平整、致密、均匀,铝晶粒大小均一

(ii)表面无开裂


Aao

研究内容与方法

  • 通过对镀铝层的形貌研究,探寻最佳镀铝工艺

  • 对镀铝层阳极氧化制得AAO模板进行表征

  • 讨论在AAO模板中沉积金属后电极的性能


Aao

研究内容与方法

在不锈钢或铜基底上镀铝层的制备过程

离子液体[BMIM]Cl-AlCl3的制备

以铝为阳极,不锈钢或铜基底为阴极,在离子液体中进行电镀

调节工艺参数电镀时间、电流密度,温度等

获得不同条件下的镀铝层并进行测试


Aao

研究内容与方法

离子液体中电镀铝装置示意图


Aao

研究内容与方法

离子液体中电沉积铝的工艺流程图


Aao

研究内容与方法

多孔阳极氧化铝膜制备的流程示意图


Aao

实验计划

  • 2013,5-7:查阅文献及实验前期准备工作。

  • 2013,8-12:离子液体中制备镀铝层。

  • 2014,1-6:对镀铝层形貌和化学成分进行分析。

  • 2014,7-12:在镀铝层上阳极氧化制备AAO模板。

  • 2015,1-4:整理数据,撰写毕业论文。

  • 2015,5-7:准备毕业答辩。


Aao

谢谢!


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